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1. (WO2013047345) TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/047345    International Application No.:    PCT/JP2012/074162
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 21.09.2012
IPC:
H01B 5/14 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01)
Applicants: TOYOBO CO., LTD. [JP/JP]; 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230 (JP)
Inventors: TATAMI Naka; (JP).
NURAKAMI Hideo; (JP).
OYA Toshiyuki; (JP)
Priority Data:
2011-214735 29.09.2011 JP
2011-285257 27.12.2011 JP
Title (EN) TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI
(JA) 透明導電性フィルム及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide: a transparent conductive film which has excellent resistance stability under high temperature high humidity conditions and excellent durability to pen-based input when used in a touch panel; and a method for efficiently producing the transparent conductive film. [Solution] A transparent conductive film wherein a transparent conductor film of tin oxide-added indium oxide is laminated on at least one surface of a transparent plastic film base. This transparent conductive film is characterized in that: the tin oxide content decreases continuously and/or in stages in the transparent conductor film in the film thickness direction from the transparent plastic film base side toward the surface layer side; the tin oxide content contained in the surface layer-side transparent conductor film is 0.5-8% by mass; the tin oxide content contained in the transparent plastic base-side transparent conductor film is higher than the surface layer-side content by 20-60% by mass; the total thickness of the transparent conductor film is 16-50 nm; and the thickness of a part of the transparent conductor film having a tin oxide content of 0.5-8% by mass is 15 nm or more.
(FR)La présente invention vise à fournir : un film conducteur transparent qui a une excellente stabilité de résistance sous des conditions de température élevée et d'humidité élevée et une excellente durabilité à une entrée par un stylo, lorsqu'il est utilisé dans un écran tactile ; et un procédé de production de manière efficace du film conducteur transparent. A cet effet, la présente invention porte sur un film conducteur transparent dans lequel un film conducteur transparent d'oxyde d'indium additionné d'oxyde d'étain est stratifié sur au moins une surface d'une base de film de matière plastique transparente. Ce film conducteur transparent est caractérisé en ce que : la teneur en oxyde d'étain diminue de manière continue et/ou par échelons dans le film conducteur transparent dans la direction d'épaisseur de film depuis le côté base de film de matière plastique transparente vers le côté couche de surface ; la teneur en oxyde d'étain contenu dans le film conducteur transparent côté couche de surface est de 0,5-8 % en masse ; la teneur en oxyde d'étain contenu dans le film conducteur transparent côté base de matière plastique transparente est supérieure à la teneur côté couche de surface de 20-60 % en masse ; l'épaisseur totale du film conducteur transparent est de 16-50 nm ; et l'épaisseur d'une partie du film conducteur transparent ayant une teneur en oxyde d'étain de 0,5-8 % en masse est de 15 nm ou plus.
(JA)【課題】タッチパネルに用いた際の高温高湿条件下での抵抗値安定性、およびペン入力耐久性に優れる透明導電性フィルム及びその効率的な製造方法を提供すること。 【解決手段】透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、酸化スズ添加酸化インジウムの透明導電膜が積層された透明導電性フィルムであって、透明導電膜の膜厚方向に対して、透明プラスチックフィルム基材側から表層側に向かって酸化スズの含有量が連続的に、および/または、段階的に減少していて、かつ、表層側の透明導電膜に含まれる酸化スズの含有量が0.5~8質量%であり、かつ、透明プラスチック基材側の透明導電膜に含まれる酸化スズの含有量が表層側の含有量より20~60質量%多く、かつ透明導電膜の全体の厚みが16~50nmであり、かつ酸化スズの含有量が0.5~8質量%の透明導電膜の厚みが15nm以上である透明導電性フィルム。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)