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1. (WO2013047341) TRANSPARENT CONDUCTOR AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/047341    International Application No.:    PCT/JP2012/074155
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 21.09.2012
IPC:
H01B 13/00 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01)
Applicants: KYUSHU UNIVERSITY, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION [JP/JP]; 10-1, Hakozaki 6-chome, Higashi-ku, Fukuoka-shi, Fukuoka 8128581 (JP).
Toray Industries, Inc. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666 (JP)
Inventors: IMAZU Naoki; (JP).
WATANABE Osamu; (JP).
NAKASHIMA Naotoshi; (JP).
FUJIGAYA Tsuyohiko; (JP)
Agent: BAN Toshimitsu; Honest International Patents, Shinko Bldg., 1-9, Nishishinjuku 8-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
Priority Data:
2011-214679 29.09.2011 JP
Title (EN) TRANSPARENT CONDUCTOR AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) CONDUCTEUR TRANSPARENT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 透明導電体およびその製造方法
Abstract: front page image
(EN)A method for producing a transparent conductor, wherein a conductive laminated structure is formed on at least one surface of a transparent base by forming a conductive layer on the transparent base by applying a dispersion liquid containing carbon nanotubes thereto and drying the applied dispersion liquid. The method for producing a transparent conductor is characterized by carrying out a step wherein an undercoat layer that contains a hole dopant compound in an amount of 0.2-20% by mass is formed as a transparent base before the formation of the conductive layer or a step wherein an overcoat layer that contains a hole dopant compound in an amount of 0.2-20% by mass is formed after the formation of the conductive layer. A transparent conductor which is characterized by comprising, on at least one surface of a transparent base, an undercoat layer that contains a hole dopant compound in an amount of 0.2-20% by mass and a conductive layer that contains carbon nanotubes in this order, or alternatively a conductive layer that contains carbon nanotubes and an overcoat layer that contains a hole dopant compound in an amount of 0.2-20% by mass in this order. Namely, the present invention provides a technique for forming a simple and productive carbon nanotube transparent conductor which has excellent transparent conductivity.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un conducteur transparent, une structure stratifiée conductrice étant formée sur au moins une surface d'une base transparente en formant une couche conductrice sur la base transparente par application sur celle-ci d'un liquide de dispersion contenant des nanotubes de carbone et par le séchage du liquide de dispersion appliqué. Le procédé de fabrication d'un conducteur transparent est caractérisé par l'exécution d'une étape à laquelle une sous-couche, qui contient un composé dopant de trous en une quantité de 0,2 à 20 % en masse, est formée en tant que base transparente avant la formation de la couche conductrice, ou d'une étape à laquelle une couche de revêtement, qui contient un composé dopant de trous en une quantité de 0,2 à 20 % en masse, est formée après la formation de la couche conductrice. L'invention porte également sur un conducteur transparent qui est caractérisé en ce qu'il comporte, sur au moins une surface d'une base transparente, une sous-couche qui contient un composé dopant de trous en une quantité de 0,2 à 20 % en masse et une couche conductrice qui contient des nanotubes de carbone dans cet ordre, ou selon une variante une couche conductrice qui contient des nanotubes de carbone et une couche de revêtement qui contient un composé dopant de trous en une quantité de 0,2 à 20 % en masse dans cet ordre. A savoir, la présente invention porte sur une technique qui permet de former un conducteur transparent, à nanotubes de carbone, simple et productif, qui possède d'excellentes propriétés de transparence et de conductivité.
(JA) 透明基材上にカーボンナノチューブを含む分散液を塗布し乾燥させて導電層を形成することで透明基材の少なくとも片面に導電性の積層構造を形成する透明導電体の製造方法であって、導電層を形成する前に0.2~20質量%の割合でホールドープ化合物を含有するアンダーコート層を透明基材上に形成する工程、または、導電層を形成した後に0.2~20質量%の割合でホールドープ化合物を含有するオーバーコート層を形成する工程を実施することを特徴とする透明導電体の製造方法。また、透明基材の少なくとも片面に、ホールドープ化合物を0.2~20質量%の割合で含むアンダーコート層と、カーボンナノチューブを含む導電層とをこの順で有し、あるいは、カーボンナノチューブを含む導電層と、ホールドープ化合物を0.2~20質量%の割合で含むオーバーコート層とをこの順で有することを特徴とする透明導電体。透明導電性に優れ、簡便かつ生産性のあるカーボンナノチューブ透明導電体を形成する手法を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)