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1. (WO2013047305) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND DRY FILM RESIST
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/047305    International Application No.:    PCT/JP2012/073999
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 20.09.2012
IPC:
G03F 7/038 (2006.01), C08F 291/06 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/032 (2006.01), H05K 3/28 (2006.01)
Applicants: NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 14-1, Sotokanda 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010021 (JP)
Inventors: KATAYAMA Hisashi; (JP).
INABA Shinji; (JP).
KAWABE Masanao; (JP)
Agent: SASAKI Kazuya; 5th Floor, TKK Nishishinbashi Bldg., 11-5, Nishi-shinbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2011-208768 26.09.2011 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND DRY FILM RESIST
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET RÉSIST DE FILM SEC
(JA) 感光性樹脂組成物及びドライフィルムレジスト
Abstract: front page image
(EN)Provided are: a photosensitive resin composition which can be developed with an alkaline aqueous solution and enables the easy formation of a cured film that is highly sensitive, has various properties including an insulation property and heat resistance, and also has excellent dielectric properties; and a dry film. An alkali-developable photosensitive resin composition comprising a component (A) which is a solvent-soluble polyfunctional vinyl copolymer produced by copolymerizing 20-99 mol% of a divinyl compound (a) with 80-1 mol% of a monovinyl compound (b) and having a vinyl group derived from the divinyl compound (a) in a side chain, a component (B) which is an alkali-soluble resin component comprising a carboxyl-group-containing copolymer (b) produced by reacting a polyol compound with a polycarboxylic acid, and a component (C) which is a photoinitiator, wherein the contents of the component (A), the components (B) and the component (C) are 1-98.9 wt%, 98.9-1 wt% and 0.1-10 wt%, respectively, relative to the total amount of the components (A) to (C).
(FR)L'invention concerne : une composition de résine photosensible qui peut être développée par une solution aqueuse alcaline et permet la formation aisée d'un film durci qui est hautement sensible, présente diverses propriétés comprenant une propriété isolante et une résistance à la chaleur et a également d'excellentes propriétés diélectriques ; et un film sec. L'invention concerne une composition de résine photosensible développable par un alcali comprenant un constituant (A) qui est un copolymère vinylique polyfonctionnel soluble dans un solvant obtenu par copolymérisation de 20-99 % en moles d'un composé divinylique (a) avec 80-1 % en moles d'un composé monovinylique (b) et ayant un groupe vinylique issu du composé divinylique (a) dans une chaîne latérale, un constituant (B) qui est un constituant de résine soluble dans les alcalis comprenant un copolymère à teneur en groupe carboxyle (b) obtenu par réaction d'un composé polyol avec un acide polycarboxylique, et un constituant (C) qui est un photoinitiateur, les teneurs du constituant (A), du constituant (B) et du constituant (C) étant de respectivement 1-98,9 % en poids, de 98,9-1 % en poids et 0,1-10 % en poids, par rapport à la quantité totale des constituants (A) à (C).
(JA) アルカリ性水溶液で現像でき、高感度で絶縁性、耐熱性等の諸特性とともに、誘電特性の優れた硬化膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物及びドライフィルムを提供する。 (A)成分:ジビニル化合物(a)20~99モル%及びモノビニル化合物(b)80~1モル%を共重合して得られる共重合体であって、ジビニル化合物(a)に由来するビニル基を側鎖に有する溶剤可溶性多官能ビニル共重合体、(B)成分:ポリオール化合物と多価カルボン酸類とを反応させて得られるカルボキシル基含有共重合体(b)を含むアルカリ可溶性樹脂成分と、(C)成分:光開始剤を含み、(A)成分~(C)成分の合計に対する(A)成分が1~98.9wt%、(B)成分が98.9~1wt%、(C)成分が0.1~10wt%であるアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)