WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013047288) PRODUCTION METHOD FOR GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/047288    International Application No.:    PCT/JP2012/073909
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 19.09.2012
IPC:
G11B 5/84 (2006.01), C03C 19/00 (2006.01)
Applicants: HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Naka-Ochiai 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP)
Inventors: NAKAE, Hazuki; (JP)
Agent: Fukami Patent Office, p.c.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Priority Data:
2011-217399 30.09.2011 JP
Title (EN) PRODUCTION METHOD FOR GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
(JA) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
Abstract: front page image
(EN)A glass material having a main surface and including SiO2 in the components thereof is prepared (S10). First free abrasive grains are supplied between the main surface of the glass material and a first polishing pad comprising a soft foamed resin pad, and the main surface of the glass material is mechanically polished using the first polishing pad (S15). The soft foamed resin pad has an Asker C hardness of 73-85. Then, second free abrasive grains differing from the first free abrasive grains are supplied between the main surface of the glass material and a second polishing pad, and the main surface of the glass material is chemically-mechanically polished using the second polishing pad (S16). Then, third free abrasive grains are supplied between the main surface of the glass material and a third polishing pad, and the main surface of the glass material is polished using the third polishing pad (S17).
(FR)Selon l'invention, un matériau de verre, ayant une surface principale et comprenant du SiO2 parmi des composants, est préparé (S10). Des premiers grains abrasifs, libres, sont distribués entre la surface principale du matériau de verre et un premier tampon de polissage comportant un tampon de résine expansée, souple, et la surface principale du matériau de verre est polie mécaniquement à l'aide du premier tampon de polissage (S15). Le tampon de résine expansée, souple, présente une dureté Asker C de 73 à 85. Des deuxièmes grains abrasifs, libres, différents des premiers grains abrasifs, libres, sont ensuite distribués entre la surface principale du matériau de verre et un deuxième tampon de polissage, et la surface principale du matériau de verre est polie de manière chimico-mécanique à l'aide du deuxième tampon de polissage (S16). Puis, des troisièmes grains abrasifs, libres, sont distribués entre la surface principale du matériau de verre et un troisième tampon de polissage, et la surface principale du matériau de verre est polie à l'aide du troisième tampon de polissage (S17).
(JA) 主表面を有するとともに、SiOを成分に含むガラス素材が準備される(S10)。ガラス素材の主表面と軟質発泡樹脂パッドからなる第1研磨パッドとの間に第1遊離砥粒を供給しつつ、第1研磨パッドを用いてガラス素材の主表面を機械的に研磨する(S15)。上記軟質発泡樹脂パッドは、Asker C硬度において73度以上85度以下である。その後、ガラス素材の主表面と第2研磨パッドとの間に第1遊離砥粒とは異なる第2遊離砥粒を供給しつつ、第2研磨パッドを用いてガラス素材の主表面を化学機械的に研磨する(S16)。その後、ガラス素材の主表面と第3研磨パッドとの間に第3遊離砥粒を供給しつつ、第3研磨パッドを用いてガラス素材の主表面を研磨する(S17)。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)