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Pub. No.:    WO/2013/047229    International Application No.:    PCT/JP2012/073578
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 14.09.2012
G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/029 (2006.01), G03F 7/035 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (For All Designated States Except US).
SONOKAWA Koji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUKUDA Tsubasa [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SONOKAWA Koji; (JP).
FUKUDA Tsubasa; (JP)
Agent: NOGUCHI Yasuhiro; NOGUCHI PATENT FIRM, Urban Toranomon Bldg., 16-4, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Priority Data:
2011-209917 26.09.2011 JP
(JA) 平版印刷版の製版方法
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a method for producing a lithographic printing plate exhibiting excellent printing durability, ink adhesion, and stain resistance during printing, whereby it is possible to perform one bath treatment. This method for producing a lithographic printing plate is characterized by involving: a step for forming a negative lithographic printing original plate having, on a support body, a photopolymerizable light sensitive layer containing a urethane-acryl hybrid polymer and/or an acryl polymer having a monomer unit derived from a vinyl carbazole compound; a step for exposing the negative lithographic printing original plate for an image; and a step for developing the exposed negative lithographic printing original plate by means of a developing solution which at least contains a compound (component A) represented by formula (I) and/or formula (II) and water (component B) and has a pH between 4 and 10 and an organic solvent content of less than 5 mass%. Moreover, the method is characterized by not involving a water washing step and a gumming step before and after the developing step.
(FR)La présente invention a pour but de proposer un procédé de fabrication d'une plaque d'impression lithographique présentant une excellente durabilité d'impression, une excellente adhésion de l'encre et une excellente résistance aux taches durant l'impression, dans lequel il est possible d'effectuer un traitement en bain. Ce procédé de fabrication d'une plaque d'impression lithographique est caractérisé en ce qu'il met en jeu : une étape de formation d'une plaque initiale d'impression lithographique négative, sur un corps de support, une couche photopolymérisable sensible à la lumière contenant un polymère hybride uréthane-acrylique et/ou un polymère acrylique ayant une unité monomère issue d'un composé vinylcarbazole; une étape d'exposition de la plaque initiale d'impression lithographique négative pour une image; et une étape de développement de la plaque initiale d'impression lithographique négative exposée, au moyen d'une solution de développement qui contient au moins un composé (composant A) représenté par la formule (I) et/ou la formule (II) et de l'eau (composant B) et a un pH entre 4 et 10 et une teneur en solvant organique de moins de 5 % en masse. De plus, le procédé est caractérisé comme ne mettant pas en jeu d'étape de lavage à l'eau et d'étape de gommage avant et après l'étape de développement.
(JA) 1浴処理が可能で、耐刷性、インキ着肉性及び印刷時の汚れにくさに優れた平版印刷版の製版方法を提供することを目的とする。 本発明の平版印刷版の製版方法は、支持体上に、ビニルカルバゾール化合物由来のモノマー単位を有するアクリルポリマー、及び/又は、ウレタン-アクリルハイブリッドポリマーを含有する光重合性感光層を有するネガ型平版印刷版原版を作製する工程、前記ネガ型平版印刷版原版を画像様に露光する工程、及び、pH4~10であり、(成分A)下記式(I)及び/又は下記式(II)で表される化合物、及び、(成分B)水、を少なくとも含み、有機溶剤の含有量が5質量%未満である現像液により、露光された前記ネガ型平版印刷版原版を現像する工程、を含み、前記現像工程の前後での水洗工程及びガム引き工程を含まないことを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)