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Pub. No.:    WO/2013/046913    International Application No.:    PCT/JP2012/069471
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 31.07.2012
G01N 35/02 (2006.01), G01N 21/47 (2006.01), G01N 21/49 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (For All Designated States Except US).
OONUMA Mitsuru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SATO Yoko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMAZAKI Hajime [JP/JP]; (JP) (For US Only).
WAKUI Akihito [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OONUMA Mitsuru; (JP).
SATO Yoko; (JP).
YAMAZAKI Hajime; (JP).
WAKUI Akihito; (JP)
Agent: HIRAKI Yusuke; Atago Green Hills MORI Tower 32F, 5-1, Atago 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1056232 (JP)
Priority Data:
2011-213151 28.09.2011 JP
(JA) 自動分析装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is an automatic analysis device in which is installed a light-scattering photometer, wherein the effect of external light is reduced and the analytical accuracy is enhanced, and the automatic analysis device is safe and easy to use. The present invention has a scattered light measuring unit provided within the main case, and openable/closable protective covers (610-630) covering the upper surface (410) of the main case. A light-shielding section for blocking external light is formed on the protective cover (610) in the center. See-through sections (621, 631), through which the interior can be seen, are provided to the protective covers. The light-shielding section covers at least the region of a reaction disc corresponding to the region above the scattered light measuring unit, and thereby reduces the amount of external light leaking onto the scattered light measuring unit and prevents the scattered light measurement from being affected by external light. The protective cover may be a single structure or have a structure divided into two parts, rather than having a structure divided into three parts.
(FR)La présente invention porte sur un dispositif d'analyse automatique dans lequel est installé un photomètre à diffusion de lumière, dans lequel l'effet de lumière extérieure est réduit et la précision analytique est améliorée, et le dispositif d'analyse automatique étant sûr et facile à utiliser. La présente invention comprend une unité de mesure de lumière diffusée disposée dans le boîtier principal et des couvercles protecteurs aptes à être ouverts/fermés (610-630) recouvrant la surface supérieure (410) du boîtier principal. Une section de protection vis-à-vis de la lumière, pour bloquer la lumière extérieure, est formée sur le couvercle protecteur (610) au centre. Des sections transparentes (621, 631), à travers lesquelles l'intérieur peut être vu, sont prévues dans les couvercles protecteurs. La section de protection vis-à-vis de la lumière recouvre au moins la région d'un disque de réaction correspondant à la région au-dessus de l'unité de mesure de lumière diffusée, et réduit ainsi la quantité de lumière extérieure qui fuit sur l'unité de mesure de lumière diffusée et empêche la mesure de lumière diffusée d'être affectée par la lumière extérieure. Le couvercle protecteur peut être une structure individuelle ou avoir une structure divisée en deux parties, plutôt que d'avoir une structure divisée en trois parties.
(JA) 光散乱光度計を組み込んだ自動分析装置において、外光の影響を低減して分析精度を上げると共に、安全で使い勝手のよい自動分析装置を提供する。 本体筐体の内部に散乱光測定部を有し、本体筺体の上面410を覆う開閉可能な保護カバー610~630を有する。中央の保護カバー610には、外光を遮蔽する遮光部が形成されている。また、保護カバーには内部を透視できる透視部621,631が設けられている。遮光部は、少なくとも散乱光測定部の上方に当たる反応ディスクの領域を覆うことで散乱光測定部に漏れ入る外光を低減し、散乱光測定が外光の影響を受けないようにする。保護カバーは、3分割構造以外に、2分割構造あるいは1枚構造としてもよい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)