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1. (WO2013046900) MAGNETIC RESONANCE IMAGING EQUIPMENT, HIGH FREQUENCY MAGNETIC FIELD IRRADIATION METHOD AND PROGRAM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/046900    International Application No.:    PCT/JP2012/069239
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 27.07.2012
IPC:
A61B 5/055 (2006.01), G01R 33/34 (2006.01)
Applicants: HITACHI MEDICAL CORPORATION [JP/JP]; 4-14-1, Soto-kanda, Chiyoda-ku, Tokyo 1010021 (JP) (For All Designated States Except US).
KANEKO, Yukio [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SOUTOME, Yoshihisa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
BITO, Yoshitaka [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAKEUCHI, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAKAHASHI, Tetsuhiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HABARA, Hideta [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OTAKE, Yosuke [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KANEKO, Yukio; (JP).
SOUTOME, Yoshihisa; (JP).
BITO, Yoshitaka; (JP).
TAKEUCHI, Hiroyuki; (JP).
TAKAHASHI, Tetsuhiko; (JP).
HABARA, Hideta; (JP).
OTAKE, Yosuke; (JP)
Agent: Sannozaka Patent Law Firm; 4th Yasuda Building 9F, 26-2, Tsuruyacho 2-chome, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2210835 (JP)
Priority Data:
2011-214865 29.09.2011 JP
Title (EN) MAGNETIC RESONANCE IMAGING EQUIPMENT, HIGH FREQUENCY MAGNETIC FIELD IRRADIATION METHOD AND PROGRAM
(FR) EQUIPEMENT D'IMAGERIE À RÉSONANCE MAGNÉTIQUE, PROCÉDÉ D'IRRADIATION DE CHAMP MAGNÉTIQUE HAUTE FRÉQUENCE ET PROGRAMME ASSOCIÉ
(JA) 磁気共鳴撮像装置、高周波磁場照射方法およびプログラム
Abstract: front page image
(EN)The invention maximizes the B1 inhomogeneity-reducing effect of RF shimming for an image cross-section of a selected axial direction and a selected position while minimizing the prolonging of imaging time. Only a few B1 distributions in a single previously determined direction are measured and from said B1 distribution data, the respective high frequency magnetic field conditions that maximize the B1 inhomogeneity-reducing effect are calculated for the image cross-section of a selected direction and a selected position. For example, after measuring only a few B1 distributions in the AX direction, an optimal high frequency magnetic field condition for an image cross-section at a selected position in the AX direction is determined by interpolating from the optimal high frequency magnetic field conditions calculated from two B1 distributions near the image cross-section, and an optimal high frequency magnetic field condition for an image cross-section at a selected position in the SAG or COR directions is determined by extracting and using, of the B1 distribution, only the B1 value of the region of intersection with the image cross-section.
(FR)La présente invention rend maximal l'effet de réduction d'inhomogénéité B1 de compensation RF pour une coupe transversale d'image d'une direction axiale choisie et d'une position choisie tout en rendant minimal la prolongation du temps d'imagerie. Seules quelques distributions B1 dans une seule direction précédemment déterminée sont mesurées, et, à partir desdites données de distribution B1, les conditions de champ magnétique haute fréquence respectives qui rendent maximal l'effet de réduction d'inhomogénéité B1 sont calculées pour la coupe transversale d'image d'une direction choisie et d'une position choisie. Par exemple, après mesure uniquement de quelques distributions B1 dans la direction AX, une condition de champ magnétique haute fréquence optimale pour une coupe transversale d'image à une position choisie dans une direction AX est déterminée par interpolation à partir des conditions de champ magnétique haute fréquence optimales calculées à partir de deux distributions B1 près de la coupe transversale d'image, et une condition de champ magnétique haute fréquence optimale pour une coupe transversale d'image à une position choisie dans les directions SAG ou COR est déterminée par extraction et utilisation, de la distribution B1, uniquement de la valeur B1 de la région d'intersection avec la coupe transversale d'image.
(JA)撮像時間の延長を最小限に抑えつつ、任意軸方向、任意位置の撮像断面の、RFシミングによるB不均一低減効果を最大とする。予め定めた1方向の数枚のB分布のみを計測し、そのB分布データから、任意方向、任意位置の撮像断面に対して、B不均一低減効果を最大とする高周波磁場条件を各々計算する。たとえば、AX方向に数枚のみのB分布を計測した上で、AX方向の任意位置の撮像断面に対する最適な高周波磁場条件については、撮像断面に近い2つのB分布から計算された最適な高周波磁場条件から補間することによって求め、SAG、COR方向の任意位置の撮像断面に対する最適な高周波磁場条件については、B分布のうち、撮像断面との交差領域内のB値のみを抽出し、それを用いて求める。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)