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1. (WO2013046882) IRON/PLATINUM/CARBON SPUTTERING TARGET
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/046882    International Application No.:    PCT/JP2012/068411
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 20.07.2012
Chapter 2 Demand Filed:    06.11.2012    
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C04B 35/56 (2006.01), G11B 5/851 (2006.01)
Applicants: JX Nippon Mining & Metals Corporation [JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164 (JP) (For All Designated States Except US).
SATO Atsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SATO Atsushi; (JP)
Agent: OGOSHI Isamu; OGOSHI International Patent Office, HATSUMEIKAIKAN 5F, 9-14, Toranomon 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Priority Data:
2011-209493 26.09.2011 JP
Title (EN) IRON/PLATINUM/CARBON SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE EN FER/PLATINE/CARBONE
(JA) Fe-Pt-C系スパッタリングターゲット
Abstract: front page image
(EN)A sintered sputtering target, the composition of which, in terms of atomic ratio, is represented by the formula (Fe100−X-PtX)100−ACA, with A and X satisfying the relations 20 ≤ A ≤ 50 and 35 ≤ X ≤ 55. Said sputtering target is characterized by carbon particles finely dispersed in a base alloy and an oxygen content of 300 wt ppm or less. The present invention addresses the problem of providing an iron/platinum sputtering target that allows the production of a highly corrosion-resistant magnetic thin film having a granular structure, has finely dispersed carbon particles that make it easy to create ordered L10 structures, and has a low oxygen content.
(FR)L'invention porte sur une cible de pulvérisation cathodique frittée, dont la composition, en termes de rapport atomique, est représentée par la formule (Fe100−X-PtX)100−ACA, A et X satisfaisant aux relations 20 ≤ A ≤ 50 et 35 ≤ X ≤ 55. Ladite cible de pulvérisation cathodique est caractérisée par des particules de carbone finement dispersées dans un alliage de base et une teneur en oxygène inférieure ou égale à 300 ppm en poids. La présente invention permet d'obtenir une cible de pulvérisation cationique à base de fer/platine qui permet la production d'une couche mince magnétique hautement résistante à la corrosion ayant une structure granulaire, qui comprend des particules de carbone finement dispersées qui rendent facile la création de structures L10 ordonnée et qui a une faible teneur en oxygène.
(JA) 原子数比における組成が式:(Fe100-X-Pt100-A(但し、Aは20≦A≦50、Xは35≦X≦55を満たす数)で表される焼結体スパッタリングターゲットであって、母材合金中に微細分散したC粒子を有し、酸素含有量が300wtppm以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット。 耐食性に優れたグラニュラー構造磁性薄膜の作成を可能にし、さらにはL1構造の規則化を容易にする、C粒子が微細分散し、かつ低酸素含有量のFe-Pt系スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)