WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013044936) PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/044936    International Application No.:    PCT/EP2011/004859
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 29.09.2011
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01S 5/00 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
ZELLNER, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BITTNER, Boris [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WABRA, Norbert [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HODENBERG, Martin von [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHNEIDER, Sonja [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHNEIDER, Ricarda [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHOB, Arne [DE/DE]; (DE) (For US Only).
RUDOLPH, Günter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
GRATZKE, Alexander [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MOFFAT, Bryce, Anton [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: ZELLNER, Johannes; (DE).
BITTNER, Boris; (DE).
WABRA, Norbert; (DE).
HODENBERG, Martin von; (DE).
SCHNEIDER, Sonja; (DE).
SCHNEIDER, Ricarda; (DE).
SCHOB, Arne; (DE).
RUDOLPH, Günter; (DE).
GRATZKE, Alexander; (DE).
MOFFAT, Bryce, Anton; (DE)
Agent: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner Epplestr. 14 70597 Stuttgart (DE)
Priority Data:
Title (EN) PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) OBJECTIF DE PROJECTION D'APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION EN MICROLITHOGRAPHIE
Abstract: front page image
(EN)A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a wavefront correction device (42) comprising a refractive optical element (44; 44a, 44b) that has two opposite optical surfaces (46, 48), through which projection light passes, and a circumferential rim surface (50) extending between the two optical surfaces (46, 48). A first and a second optical system (OS1, OS2) are configured to direct first and second heating light (HL1, HL2) to different portions of the rim surface (50) such that at least a portion of the first and second heating light enters the refractive optical element (44; 44a, 44b). A temperature distribution caused by a partial absorption of the heating light (HL1, HL2) results in a refractive index distribution inside the refractive optical element (44; 44a, 44b) that corrects a wavefront error. At least the first optical system (OS1) comprises a focusing optical element (55) that focuses the first heating light in a focal area (56) such that the first heating light emerging from the focal area (56) impinges on the rim surface (50).
(FR)Objectif de projection d'appareil d'exposition par projection en microlithographie, comportant un dispositif (42) de correction de front d'onde comprenant un élément optique (44 ; 44a, 44b) de réfraction qui présente deux surfaces optiques (46, 48) opposées, à travers lesquelles passe une lumière de projection, et une surface (50) de rebord circonférentiel s'étendant entre les deux surfaces optiques (46, 48). Un premier et un deuxième système optique (OS1, OS2) sont configurés pour diriger une première et une deuxième lumière de chauffage (HL1, HL2) vers des parties différentes de la surface (50) de rebord de telle façon qu'au moins une partie de la première et de la deuxième lumière de chauffage entre dans l'élément optique (44 ; 44a, 44b) de réfraction. Une répartition de température engendrée par une absorption partielle de la lumière de chauffage (HL1, HL2) se traduit par une répartition d'indice de réfraction à l'intérieur de l'élément optique (44 ; 44a, 44b) de réfraction qui corrige une erreur de front d'onde. Au moins le premier système optique (OS1) comporte un élément optique (55) de focalisation qui concentre la première lumière de chauffage dans une zone focale (56) de telle façon que la première lumière de chauffage émergeant de la zone focale (56) frappe la surface (50) de rebord.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)