WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2012128482) METHOD FOR DUPLICATING PATTERN ON CYLINDRICAL MOLD USING UV IMPRINT TECHNIQUE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/128482    International Application No.:    PCT/KR2012/001468
Publication Date: 27.09.2012 International Filing Date: 27.02.2012
IPC:
B41C 3/00 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01)
Applicants: NEW OPTICS LTD. [KR/KR]; 203 Guam-ri, Nam-myeon, Yangju-si Gyeonggi-do 482-872 (KR) (For All Designated States Except US).
SHIN, Myungdong [KR/KR]; (KR) (For US Only).
KIIM, Yusung [KR/KR]; (KR) (For US Only).
HUR, Jiwon [KR/KR]; (KR) (For US Only).
JUNG, Sanghyo [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: SHIN, Myungdong; (KR).
KIIM, Yusung; (KR).
HUR, Jiwon; (KR).
JUNG, Sanghyo; (KR)
Agent: LEE, Jae-Chan; Qus International Patent Office 2nd Fl., Jeonghwan Bldg. 263-2 Yangjae-dong, Seocho-gu Seoul 137-894 (KR)
Priority Data:
10-2011-0025354 22.03.2011 KR
Title (EN) METHOD FOR DUPLICATING PATTERN ON CYLINDRICAL MOLD USING UV IMPRINT TECHNIQUE
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE REPRODUIRE UN MOTIF SUR UN MOULE CYLINDRIQUE À L'AIDE D'UNE TECHNIQUE D'IMPRESSION PAR UV
(KO) UV 임프린트 기법을 이용하여 원통 금형에 패턴을 복제하는 방법
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a method for duplicating a pattern on a cylindrical mold using a UV imprint technique, and more specifically, to a method for duplicating a pattern on a cylindrical mold using a UV imprint technique, which enables the generation of a nano-unit pattern through a simple process, by duplicating a pattern using a UV imprint technique on a cylindrical mold. The method for duplicating a pattern on a cylindrical mold using a UV imprint technique comprises: a first step for coating a UV hardener on the pattern of an original mold, for a stamp cylinder to duplicate the pattern of the original mold while rotating in contact with the original mold, and for irradiating a UV light source on the stamp cylinder; a second step for etching the stamp cylinder duplicated with the pattern of the original mold; a third step for coating the UV hardener on the pattern of the stamp cylinder, for a duplicate mold to duplicate the pattern of the stamp cylinder while rotating in contact with the stamp cylinder, and for irradiating a UV light source on the duplicate mold and duplicating the pattern of the stamp cylinder on the duplicate mold; and a fourth step for etching the duplicate mold duplicated with the pattern of the stamp cylinder.
(FR)La présente invention a trait à un procédé permettant de reproduire un motif sur un moule cylindrique à l'aide d'une technique d'impression par UV et, plus particulièrement, à un procédé permettant de reproduire un motif sur un moule cylindrique à l'aide d'une technique d'impression par UV, qui permet de générer un nano-motif au moyen d'un processus simple, en reproduisant un motif à l'aide d'une technique d'impression par UV sur un moule cylindrique. Le procédé permettant de reproduire un motif sur un moule cylindrique à l'aide d'une technique d'impression par UV comprend : une première étape consistant à enduire un durcisseur par UV sur le motif d'un moule initial, afin qu'un cylindre de poinçon reproduise le motif sur le moule initial lorsqu'il tourne tout en étant en contact avec le moule initial et afin d'irradier une source de rayonnement UV sur le cylindre de poinçon; une deuxième étape consistant à graver le cylindre de poinçon sur lequel a été reproduit le motif du moule initial; une troisième étape consistant à enduire le durcisseur par UV sur le motif du cylindre de poinçon, afin qu'un moule de reproduction reproduise le motif sur le cylindre de poinçon lorsqu'il tourne tout en étant en contact avec le cylindre de poinçon et afin d'irradier une source de rayonnement UV sur le moule de reproduction et de reproduire le motif du cylindre de poinçon sur le moule de reproduction; et une quatrième étape consistant à graver le moule de reproduction sur lequel a été reproduit le motif du cylindre de poinçon.
(KO)본 발명은 UV 임프린트 기법을 이용하여 원통 금형에 패턴을 복제하는 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 원통 금형에 UV 임프린트 기법을 이용하여 패턴을 복제함으로써, 나노 단위의 패턴을 간단한 공정을 통해 생성할 수 있는 UV 임프린트 기법을 이용하여 원통 금형에 패턴을 복제하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 UV 임프린트 기법을 이용하여 원통 금형에 패턴을 복제하는 방법은 원본 금형의 패턴에 UV 경화제가 도포되고, 스탬프 원통은 상기 원본 금형과 맞닿아 회전하면서 상기 원본 금형의 패턴을 복제하며, 상기 스탬프 원통에 UV 광원을 조사하는 제 1단계와 상기 원본 금형의 패턴이 복제된 상기 스탬프 원통을 식각하는 제 2단계와 상기 스탬프 원통의 패턴에 UV 경화제가 도포되고, 복제 금형은 상기 스탬프 원통과 맞닿아 회전하면서 상기 스탬프 원통의 패턴을 복제하며, 상기 복제 금형에 UV 광원을 조사하여 상기 스탬프 원통의 패턴을 복제 금형에 복제하는 제 3단계 및 상기 스탬프 원통의 패턴이 복제된 상기 복제 금형을 식각하는 제 4단계를 포함함에 기술적 특징이 있다.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Korean (KO)
Filing Language: Korean (KO)