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1. (WO2012126867) DEFLECTION MIRROR AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A DEFLECTION MIRROR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/126867    International Application No.:    PCT/EP2012/054752
Publication Date: 27.09.2012 International Filing Date: 19.03.2012
IPC:
G02B 17/06 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
ENKISCH, Hartmut [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MUELLENDER, Stephan [BE/DE]; (DE) (For US Only).
ENDRES, Martin [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: ENKISCH, Hartmut; (DE).
MUELLENDER, Stephan; (DE).
ENDRES, Martin; (DE)
Agent: CARL ZEISS AG; Patentabteilung Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen (DE)
Priority Data:
61/466,199 22.03.2011 US
10 2011 075 579.9 10.05.2011 DE
Title (EN) DEFLECTION MIRROR AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A DEFLECTION MIRROR
(FR) MIROIR DE DÉVIATION ET APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE COMPRENANT CE MIROIR DE DÉVIATION
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a deflection mirror for a microlithography projection exposure apparatus for illuminating an object field in an object plane of the projection exposure apparatus using the deflection mirror with grazing incidence. Said deflection mirror consists of a substrate and at least one layer system, and during operation light impinges on said mirror at a multiplicity of angles of incidence, wherein the layer system is designed such that, for light having a wavelength of less than 30 nm, for an angle of incidence of between 55° and 70°, the variation of the reflectivity is less than 20%, in particular less than 12%.
(FR)La présente invention concerne un miroir de déviation destiné à un appareil d'exposition par projection pour microlithographie qui permet d'éclairer un champ d'objet dans un plan objet de l'appareil d'exposition par projection à l'aide du miroir de déviation avec une incidence rasante. Ledit miroir de déviation est composé d'un substrat et d'au moins un système de couches, et, lors du fonctionnement, la lumière atteint ce miroir selon une multitude d'angles d'incidence. Le système de couches est conçu de manière à ce que, pour une lumière ayant une longueur d'onde inférieure à 30 nm et pour un angle d'incidence compris entre 55 et 70°, la variation de la réflectivité soit de moins de 20 %, en particulier de moins de 12 %.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)