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1. (WO2012124820) METAL COMPLEX AND ORGANIC ELECTRONIC ELEMENT CONTAINING SAID METAL COMPLEX
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/124820    International Application No.:    PCT/JP2012/057249
Publication Date: 20.09.2012 International Filing Date: 14.03.2012
IPC:
C07D 235/14 (2006.01), C09K 11/06 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), C07F 5/00 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (For All Designated States Except US).
KURAMOCHI, Yusuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HIGASHIMURA, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KURAMOCHI, Yusuke; (JP).
HIGASHIMURA, Hideyuki; (JP)
Agent: NAKAYAMA, Tohru; c/o Sumitomo Chemical Intellectual Property Service, Limited, 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5418550 (JP)
Priority Data:
2011-056199 15.03.2011 JP
Title (EN) METAL COMPLEX AND ORGANIC ELECTRONIC ELEMENT CONTAINING SAID METAL COMPLEX
(FR) COMPLEXE MÉTALLIQUE ET ÉLÉMENT ÉLECTRONIQUE ORGANIQUE CONTENANT LEDIT COMPLEXE MÉTALLIQUE
(JA) 金属錯体及び該金属錯体を含む有機電子素子
Abstract: front page image
(EN)The proportion of sp3 carbon atoms contained in this metal complex, represented by composition formula (1), is 22 mass% or more of the total mass of said complex. [In formula (1), M represents a cerium ion, praseodymium ion, ytterbium ion or lutetium ion, L represents a ligand represented in formula (2) (in formula (2), A1, A2 and A3 independently represent direct bonds or hydro-carbon-diyl groups which optionally have a substituent, and L1, L2 and L3 independently represent hydrogen atoms or coordinating groups. However, at least one of L1, L2 and L3 represents a heterocyclyl group, which optionally has a substituent, as a coordinating group.), X represents a counterion, L' represents a monodentate or bidentate ligand, a is a positive number, b and c are independently numbers greater than or equal to zero. If there are multiple L, X and L', these may be identical or different.]
(FR)La proportion d'atomes de carbone sp3 contenue dans ce complexe métallique, représentée par la formule de composition (1), est de 22 % en masse ou plus de la masse totale dudit complexe. [Dans la formule (1), M représente un ion cérium, un ion praséodyme, un ion ytterbium ou un ion lutétium, L représente un ligand représenté dans la formule (2) (dans la formule (2), A1, A2 et A3 représentent indépendamment des liaisons directes ou des groupes hydro-carbone-diyle qui comportent éventuellement un substituant, et L1, L2 et L3 représentent indépendamment des atomes d'hydrogène ou des groupes de coordination. Cependant, au moins l'un parmi L1, L2 et L3 représente un groupe hétérocyclyle, qui comporte éventuellement un substituant, comme groupe de coordination.), X représente un contre-ion, L' représente un ligand monodentate ou bidentate, a est un nombre positif, b et c sont indépendamment des nombres supérieurs ou égaux à zéro. S'il y a plusieurs L, X et L', ceux-ci peuvent être identiques ou différents].
(JA)下記組成式(1): [式(1)中、Mは、セリウムイオン、プラセオジムイオン、イッテルビウムイオン又はルテチウムイオンを表し、 Lは下記式(2): (式(2)中、A1、A2及びA3は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいヒドロカーボンジイル基、又は、直接結合を表し、 L1、L2及びL3は、それぞれ独立に、水素原子又は配位基を表す。但し、L1、L2及びL3の少なくとも1個は、配位基として、置換基を有していてもよいヘテロシクリル基を表す。)で表される配位子を表し、 Xは、対イオンを表し、 L'は、単座又は2座の配位子を表し、 aは正の数であり、b及びcは、それぞれ独立に、0以上の数である。 L、X及びL'が複数ある場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。] で表される金属錯体であって、 該金属錯体の全質量に対して、該金属錯体に含まれるsp3炭素原子の割合が22質量%以上である金属錯体。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)