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1. (WO2012123894) STUDYING DOSIMETRIC IMPACT OF MOTION TO GENERATE ADAPTIVE PATIENT-SPECIFIC MARGINS IN EBRT PLANNING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/123894    International Application No.:    PCT/IB2012/051178
Publication Date: 20.09.2012 International Filing Date: 13.03.2012
IPC:
A61N 5/10 (2006.01)
Applicants: KONINKLIJKE PHILIPS N.V. [NL/NL]; High Tech Campus 5 NL-5656 AE Eindhoven (NL) (For All Designated States Except US).
BHARAT, Shyam [IN/US]; (NL) (For US Only).
BZDUSEK, Karl, Antonin [US/US]; (NL) (For US Only).
PARIKH, Parag, Jitendra [US/US]; (NL) (For US Only).
NOEL, Camille, Elizabeth [US/US]; (NL) (For US Only).
WASHINGTON UNIVERSITY IN ST. LOUIS; One Brookings Drive St. Louis, Missouri 63130 (US)
Inventors: BHARAT, Shyam; (NL).
BZDUSEK, Karl, Antonin; (NL).
PARIKH, Parag, Jitendra; (NL).
NOEL, Camille, Elizabeth; (NL)
Agent: VAN VELZEN, Maaike, M.; High Tech Campus, Building 44 NL-5656 AE Eindhoven (NL)
Priority Data:
61/452,797 15.03.2011 US
Title (EN) STUDYING DOSIMETRIC IMPACT OF MOTION TO GENERATE ADAPTIVE PATIENT-SPECIFIC MARGINS IN EBRT PLANNING
(FR) ÉTUDE DE L'IMPACT DOSIMÉTRIQUE D'UN MOUVEMENT POUR GÉNÉRER DES MARGES ADAPTATIVES SPÉCIFIQUES À UN PATIENT LORS D'UNE PLANIFICATION EBRT
Abstract: front page image
(EN)A treatment planning system (106) for generating patient-specific treatment margins. The system (106) includes one or more processors (142). The processors (142) are programmed to receive a radiation treatment plan (RTP) for irradiating a target (122) over the course of one or more treatment fractions. The RTP including one or more treatment margins around the target (122) and a planned dose distribution for the target (122). The processors (142) are further programmed to receive motion data for at least one of the treatment fractions of the RTP from one or more target surrogates (124), calculate a motion-compensated dose distribution for the target (122) using the motion data and the planned dose distribution, compare the motion-compensated dose distribution to the planned dose distribution, and adjust the treatment margins based on dosimetric differences between the motion-compensated dose distribution and the planned dose distribution.
(FR)L'invention porte sur un système de planification de traitement (106) pour générer des marges de traitement spécifiques à un patient. Le système (106) comprend un ou plusieurs processeurs (142). Les processeurs (142) sont programmés pour recevoir un plan de traitement par rayonnement (RTP) pour irradier une cible (122) au cours d'une ou plusieurs fractions de traitement. Le RTP comprend une ou plusieurs marges de traitement autour de la cible (122) et une distribution de dose planifiée pour la cible (122). Les processeurs (142) sont en outre programmés pour recevoir des données de mouvement pour au moins l'une des fractions de traitement du RTP à partir d'un ou plusieurs substituts de cible (124), calculer une distribution de dose compensée par un mouvement pour la cible (122) à l'aide des données de mouvement et de distribution de dose planifiée, comparer la distribution de dose compensée par un mouvement à la distribution de dose planifiée, et ajuster les marges de traitement sur la base de différences dosimétriques entre la distribution de dose compensée par un mouvement et la distribution de dose planifiée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)