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1. (WO2012123503) METHOD FOR MODIFYING A SURFACE OF A SUBSTRATE USING ION BOMBARDMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/123503    International Application No.:    PCT/EP2012/054480
Publication Date: 20.09.2012 International Filing Date: 14.03.2012
IPC:
C08J 7/12 (2006.01), B29C 59/14 (2006.01)
Applicants: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E. V. [DE/DE]; Hansastraße 27 c 80686 München (DE) (For All Designated States Except US).
SOUTHWALL EUROPE GMBH [DE/DE]; Southwallstraße 1 01900 Großröhrsdorf (DE) (For All Designated States Except US).
SCHULZ, Ulrike [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MUNZERT, Peter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
THIELSCH, Roland [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHÖNBERGER, Waldemar [DE/DE]; (DE) (For US Only).
FAHLAND, Matthias [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KLEINHEMPEL, Ronny [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: SCHULZ, Ulrike; (DE).
MUNZERT, Peter; (DE).
THIELSCH, Roland; (DE).
SCHÖNBERGER, Waldemar; (DE).
FAHLAND, Matthias; (DE).
KLEINHEMPEL, Ronny; (DE)
Agent: EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH; Ridlerstraße 55 80339 München (DE)
Priority Data:
10 2011 013 822.6 14.03.2011 DE
Title (DE) VERFAHREN ZUR MODIFIZIERUNG EINER OBERFLÄCHE EINES SUBSTRATS DURCH IONENBESCHUSS
(EN) METHOD FOR MODIFYING A SURFACE OF A SUBSTRATE USING ION BOMBARDMENT
(FR) PROCÉDÉ DE MODIFICATION D'UNE SURFACE D'UN SUBSTRAT PAR BOMBARDEMENT IONIQUE
Abstract: front page image
(DE)Es wird ein Verfahren zur Modifizierung einer Oberfläche eines Substrats (6) durch Ionenbeschuss beschrieben, bei dem die Ionen (7) mittels einer magnetfeldunterstützten Glimmentladung in einem Prozessgas (10) erzeugt werden, wobei die magnetfeldunterstützte Glimmentladung mittels eines Magnetrons (8, 9) erzeugt wird, das eine Elektrode (1) und mindestens einen Magneten (3) zur Erzeugung des Magnetfelds (4) aufweist. Das Prozessgas (10) weist mindestens einen elektronegativen Bestandteil auf, so dass bei der magnetfeldunterstützten Glimmentladung negative Ionen (7) erzeugt werden, wobei die negativen Ionen (7), welche an der Oberfläche der Elektrode (1) erzeugt werden, durch eine an die Elektrode (1) angelegte elektrische Spannung in Richtung des Substrats (6) beschleunigt werden. Die auf das Substrat (6) auftreffenden negativen Ionen bewirken (7) eine Modifizierung der Oberfläche des Substrats (6), wobei eine Oberflächenstruktur (15) erzeugt wird, die sich mindestens 50 nm tief in das Substrat (6) hinein erstreckt.
(EN)The invention relates to a method for modifying a surface of a substrate (6) using ion bombardment, in which the ions (7) are produced in a process gas (10) by a glow discharge supported by a magnetic field, said glow discharge being produced by means of a magnetron (8, 9) that has an electrode (1) and at least one magnet (3) for producing the magnetic field (4). The process gas (10) has at least one electronegative component such that negative ions (7) are produced during said glow discharge supported by a magnetic field, said negative ions (7), which are produced on the surface of the electrode (1), being accelerated in the direction of the substrate (6) by an electrical voltage applied to the electrode (1). The negative ions (7) striking the substrate (6) cause the surface of the substrate (6) to be modified, and a surface structure (15) is produced which extends at least 50 nm deep into said substrate (6).
(FR)L'invention concerne un procédé de modification d'une surface d'un substrat (6) par bombardement ionique, selon lequel les ions (7) sont générés dans un gaz de traitement (10) à l'aide d'une décharge luminescente assistée par un champ magnétique, la décharge luminescente assistée par un champ magnétique étant produite à l'aide d'un magnétron (8, 9) qui présente une électrode (1) et au moins un aimant (3) pour générer le champ magnétique (4). Le gaz de traitement (10) présente au moins un constituant électro-négatif de telle façon que des ions négatifs (7) soient produits lors de la décharge luminescente assistée par un champ magnétique, lesdits ions négatifs (7) qui sont produits sur la surface de l'électrode (1), étant accélérés en direction du substrat (6) sous l'action d'une tension électrique appliquée à l'électrode (1). Les ions négatifs (7) qui frappent le substrat (6) provoquent une modification de la surface du substrat (6), ce qui permet de créer une structure superficielle (15) qui s'étende jusqu'à l'intérieur du substrat (6) sur une profondeur d'au moins 50 nm.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)