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1. (WO2012121834) APPARATUS AND METHODS FOR REAL-TIME THREE-DIMENSIONAL SEM IMAGING AND VIEWING OF SEMICONDUCTOR WAFERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/121834    International Application No.:    PCT/US2012/024857
Publication Date: 13.09.2012 International Filing Date: 13.02.2012
IPC:
G01N 23/225 (2006.01), G01B 21/20 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; KLA-Tencor Corporation Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US) (For All Designated States Except US).
CHEN, Chien-Huei [US/US]; (US) (For US Only).
MACDONALD, Paul D. [US/US]; (US) (For US Only).
KUPPA, Rajasekhar [IN/US]; (US) (For US Only).
TADA, Takuji [JP/US]; (US) (For US Only).
ABBOTT, Gordon [US/US]; (US) (For US Only).
TEH, Cho [SG/US]; (US) (For US Only).
YANG, Hedong [US/US]; (US) (For US Only).
LANG, Stephen [US/US]; (US) (For US Only).
NEIL, Mark [US/US]; (US) (For US Only).
SAIDIN, Zain [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: CHEN, Chien-Huei; (US).
MACDONALD, Paul D.; (US).
KUPPA, Rajasekhar; (US).
TADA, Takuji; (US).
ABBOTT, Gordon; (US).
TEH, Cho; (US).
YANG, Hedong; (US).
LANG, Stephen; (US).
NEIL, Mark; (US).
SAIDIN, Zain; (US)
Agent: MCANDREWS, Kevin; KLA-Tencor Corp. Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Priority Data:
13/041,017 04.03.2011 US
Title (EN) APPARATUS AND METHODS FOR REAL-TIME THREE-DIMENSIONAL SEM IMAGING AND VIEWING OF SEMICONDUCTOR WAFERS
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉS POUR L'IMAGERIE ET LA VISUALISATION DE TRANCHES DE SEMI-CONDUCTEURS PAR MICROSCOPIE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE (SEM) EN TEMPS RÉEL ET EN TROIS DIMENSIONS
Abstract: front page image
(EN)One embodiment relates to a method of real-time three-dimensional electron beam imaging of a substrate surface. A primary electron beam is scanned over the substrate surface causing electrons to be emitted therefrom. The emitted electrons are simultaneously detection using a plurality of at least two off-axis sensors so as to generate a plurality of image data frames, each image data frame being due to electrons emitted from the substrate surface at a different view angle. The plurality of image data frames are automatically processed to generate a three-dimensional representation of the substrate surface. Multiple views of the three-dimensional representation are then displayed. Other embodiments, aspects and features are also disclosed.
(FR)Un mode de réalisation de l'invention a trait à un procédé d'imagerie par faisceaux d'électrons en temps réel et en trois dimensions de la surface d'un substrat. Un faisceau d'électrons primaire balaie la surface du substrat, ce qui entraîne l'émission d'électrons par ladite surface. Les électrons émis sont détectés simultanément au moyen d'au moins deux capteurs hors axe afin de générer une pluralité de trames de données d'image, chaque trame de données d'image étant créée par les électrons émis par la surface du substrat à un angle de vue différent. La pluralité de trames de données d'image est traitée automatiquement dans le but de générer une représentation en trois dimensions de la surface du substrat. Plusieurs vues de ladite représentation en trois dimensions sont alors affichées. D'autres modes de réalisation, aspects et caractéristiques de l'invention sont également décrits.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)