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1. (WO2012120923) MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC DISK SUBSTRATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2012/120923 International Application No.: PCT/JP2012/050994
Publication Date: 13.09.2012 International Filing Date: 18.01.2012
IPC:
G11B 5/84 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,B24B 37/10 (2012.01) ,C09K 3/14 (2006.01)
Applicants: HAMAGUCHI Takeshi; null (UsOnly)
KAO CORPORATION[JP/JP]; 14-10, Nihonbashi Kayabacho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038210, JP (AllExceptUS)
Inventors: HAMAGUCHI Takeshi; null
Agent: IKEUCHI SATO & PARTNER PATENT ATTORNEYS; 26th Floor, OAP TOWER, 8-30, Tenmabashi 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5306026, JP
Priority Data:
2011-05203109.03.2011JP
2011-28975528.12.2011JP
Title (EN) MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC DISK SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE DISQUE MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気ディスク基板の製造方法
Abstract:
(EN) Provided is a manufacturing method of a magnetic disk substrate capable of reducing alumina penetration and substrate surface waviness. The manufacturing method of the magnetic disk substrate has the following steps (1) to (4): (1) a step for polishing a surface to be polished of a substrate to be polished using a polishing fluid composition (A) containing alumina particles and water; (2) a step for polishing the surface to be polished of the substrate acquired in the step (1) using a polishing fluid composition (B) containing silica particles, which are of an average primary particle size (D50) of 40 to 110 nm such that the standard deviation of the primary particle size is 40 to 60 nm, and water; (3) a step for washing the substrate acquired in step (2); and a step for polishing the surface to be polished of the substrate acquired in the step (3) using a polishing fluid composition (C) containing silica particles and water.
(FR) L'invention fournit un procédé de fabrication de substrat de disque magnétique qui permet de réduire les piqûres d'alumine et le gondolement de la surface du substrat. Plus précisément, l'invention concerne un procédé de fabrication de substrat de disque magnétique qui comporte les étapes (1) à (4) suivantes : (1) une étape de polissage d'une face à polir du substrat à polir à l'aide d'une composition de liquide de polissage (A) comprenant de l'eau et des particules d'alumine; (2) une étape de polissage de la face à polir du substrat obtenu lors de ladite étape (1) à l'aide d'une composition de liquide de polissage (B) comprenant de l'eau, et des particules de silice présentant un diamètre moyen de particule primordiale (D50) de 40 à 110nm, et un écart type du diamètre de particule primordiale de 40 à 60nm; (3) une étape de nettoyage du substrat obtenu lors de l'étape (2); et (4) une étape de polissage de la face à polir du substrat obtenu lors de l'étape (3) à l'aide d'une composition de liquide de polissage (C) comprenant de l'eau, et des particules de silice.
(JA)  アルミナ突き刺さり及び基板表面うねりを低減できる磁気ディスク基板の製造方法の提供。下記(1)~(4)の工程を有する、磁気ディスク基板の製造方法。 (1)アルミナ粒子及び水を含有する研磨液組成物Aを用いて被研磨基板の研磨対象面を研磨する工程、 (2)平均一次粒子径(D50)が40~110nmであり、一次粒子径の標準偏差が40~60nmであるシリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Bを用いて前記工程(1)で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程、 (3)工程(2)で得られた基板を洗浄する工程、 (4)シリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Cを用いて工程(3)で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)