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1. (WO2012119990) METHOD FOR METALLIZING TEXTURED SURFACES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/119990    International Application No.:    PCT/EP2012/053760
Publication Date: 13.09.2012 International Filing Date: 05.03.2012
IPC:
H01L 31/0236 (2006.01), H01L 21/033 (2006.01), H01L 31/0224 (2006.01), H01L 31/18 (2006.01)
Applicants: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 25 Rue Leblanc Bâtiment "Le Ponant D" F-75015 Paris (FR) (For All Designated States Except US).
PERNEL, Carole [FR/FR]; (FR) (For US Only).
CHAIX, Nicolas [FR/FR]; (FR) (For US Only).
LANDIS, Stefan [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: PERNEL, Carole; (FR).
CHAIX, Nicolas; (FR).
LANDIS, Stefan; (FR)
Agent: HAUTIER, Nicolas; Cabinet Hautier 20 rue de la Liberte F-06000 Nice (FR)
Priority Data:
11 51755 04.03.2011 FR
Title (EN) METHOD FOR METALLIZING TEXTURED SURFACES
(FR) PROCEDE DE METALLISATION DE SURFACES TEXTUREES
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a method for creating electrically conducting or semiconducting patterns on a textured surface comprising a plurality of reliefs (102) of an amplitude greater than or equal 100 nanometres, characterized in that it comprises the following steps: - a step (10) of preparing a substrate (100, 110) during which step at least the textured surface of the substrate is rendered electrically conducting; - a coating step (20) during which at least one coat of an imprintable material (120) is laid on the textured surface, rendered electrically conducting, of the substrate; - a step (30) of pressing a mould (130) comprising hollows or projections in order to transfer the hollows or the projections of the mould (130) into the imprintable material (120) in order to form patterns (132); - a step (40) of withdrawing the mould leaving in place in the imprintable material (120) the imprint of the patterns (132); - a step of baring (50), at the bottom of the patterns, some of the textured surface, rendered electrically conducting, of the substrate; - a step (60) of electrically depositing an electrically conducting or semiconducting material in the patterns (132) to form conducting or semiconducting patterns (140, 150).
(FR)La présente invention concerne un procédé de réalisation de motifs conducteurs ou semi conducteurs d'électricité sur une surface texturée comprenant une pluralité de reliefs (102) dont l'amplitude est supérieure ou égale à 100 nanomètres, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : - une étape de préparation (10) d'un substrat (100, 1 10) au cours de laquelle au moins la surface texturée du substrat est rendue électriquement conductrice; - une étape de couchage (20) au cours de laquelle on dispose sur la surface texturée du substrat rendue électriquement conductrice au moins une couche d'un matériau imprimable (120); - une étape de pressage (30) d'un moule (130) comportant des creux ou des saillies de sorte à transférer les creux ou les saillies du moule (130) dans le matériau imprimable (120) pour y former des motifs (132); - une étape de retrait (40) du moule laissant en place dans le matériau imprimable (120) l'empreinte des motifs (132); - une étape de mise à nu (50), au fond des motifs, de la surface texturée du substrat rendue électriquement conductrice; - une étape d'électrodéposition (60) d'un matériau conducteur ou semi conducteur d'électricité dans les motifs (132) pour former des motifs conducteurs ou semi conducteurs (140, 150).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)