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Pub. No.:    WO/2012/117802    International Application No.:    PCT/JP2012/052379
Publication Date: 07.09.2012 International Filing Date: 02.02.2012
G03F 7/20 (2006.01), G02B 13/26 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: V Technology Co., Ltd. [JP/JP]; 134 Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP) (For All Designated States Except US).
MIZUMURA, Michinobu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MIZUMURA, Michinobu; (JP)
Agent: FUJIMAKI, Masanori; HOYU PATENT OFFICE, 19th Floor, Yokohama Creation Square, 5-1 Sakae-cho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2210052 (JP)
Priority Data:
2011-045578 02.03.2011 JP
(JA) 露光装置及びマイクロレンズアレイ構造体
Abstract: front page image
(EN)An exposure device according to the present invention transmits exposure light from a light source through a mask wherein a plurality of patterns to be exposed are provided at a given distance in a direction orthogonal to a scanning direction, and provides an upright equal-size image of the patterns on a substrate by means of a plurality of microlenses in a microlens array. The mircolens array is constituted by microlens array chips which are connected in a second direction, and openings for transmitting the exposure light are provided in a frame shaped holder for supporting the microlens array chips, such that the openings are positioned to match the positions between the microlens array chips. Hereby, it is possible to expose a substrate on which a positive resist material is formed across regions that will become a plurality of individual substrates.
(FR)La présente invention porte sur un dispositif d'exposition qui transmet une lumière d'exposition, provenant d'une source de lumière, à travers un masque, dans lequel une pluralité de motifs à exposer sont disposés à une distance donnée dans une direction orthogonale à une direction de balayage, et qui produit une image de taille égale, verticale, des motifs sur un substrat à l'aide d'une pluralité de microlentilles dans un réseau de microlentilles. Ledit réseau est constitué par des puces de réseau de microlentilles qui sont connectées dans une seconde direction, et des ouvertures pour transmettre la lumière d'exposition sont disposées dans un support en forme de cadre afin de porter les puces de réseau de microlentilles, de telle sorte que les ouvertures sont positionnées de façon à correspondre aux positions entre les puces de réseau de microlentilles. Par conséquent, il est possible d'exposer un substrat sur lequel un matériau de réserve positive est formé sur des régions qui deviendront une pluralité de substrats individuels.
(JA) 露光装置は、露光すべき複数個のパターンがスキャン方向に直交する方向に所定の間隔をおいて設けられたマスクに光源からの露光光を透過させ、マイクロレンズアレイの複数個のマイクロレンズによりパターンの正立等倍像を基板上に結像させる。マイクロレンズアレイは、マイクロレンズアレイチップが第2方向に接続されて構成されており、マイクロレンズアレイチップを支持する枠状のホルダには、マイクロレンズアレイチップ間の位置に整合する位置に露光光透過用の開口が設けられている。これにより、複数枚の個別基板となる領域に跨ってポジレジスト材料が形成された基板を露光することができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)