WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2012115912) DESIGN BASED DEVICE RISK ASSESSMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/115912    International Application No.:    PCT/US2012/025827
Publication Date: 30.08.2012 International Filing Date: 20.02.2012
IPC:
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US) (For All Designated States Except US).
PARK, Allen [US/US]; (US) (For US Only).
JIN, Youseung [KR/KR]; (KR) (For US Only).
CHO, Sungchan [KR/KR]; (KR) (For US Only).
SAVILLE, Barry [GB/GB]; (GB) (For US Only)
Inventors: PARK, Allen; (US).
JIN, Youseung; (KR).
CHO, Sungchan; (KR).
SAVILLE, Barry; (GB)
Agent: MCANDREWS, Kevin; KLA-Tencor Corporation Legal Dept. One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Priority Data:
61/445,164 22.02.2011 US
13/399,805 17.02.2012 US
Title (EN) DESIGN BASED DEVICE RISK ASSESSMENT
(FR) EVALUATION DE RISQUE DE DISPOSITIF BASÉE SUR UNE CONCEPTION
Abstract: front page image
(EN)The present invention includes defining a multiple patterns of interest utilizing design data of the device; generating a design based classification database, the DBC database including design data associated with each of the POIs; receiving one or more inspection results; comparing the inspection results to each of the plurality of POIs in order to identify an occurrence of at least one of the POIs in the inspection results; determining yield impact of each POI utilizing process yield data; monitoring a frequency of occurrence of each of the POIs and the criticality of the POIs in order to identify process excursions of the device; and determining a device risk level by calculating a normalized polygon frequency for the device utilizing a frequency of occurrence for each of the critical polygons and a criticality for each of the critical polygons, the critical polygons defined utilizing design data of the device.
(FR)La présente invention comprend la définition de multiples motifs d'intérêt à l'aide de données de conception du dispositif ; la génération d'une base de données de classification basée sur une conception, la base de données DBC comprenant des données de conception associées à chacun des points d'intérêt (POI) ; la réception d'un ou plusieurs résultats d'inspection ; la comparaison des résultats d'inspection à chacun de la pluralité de POI afin d'identifier une occurrence d'au moins l'un des POI dans les résultats d'inspection ; la détermination d'un impact de rendement de chaque POI à l'aide des données de rendement de processus ; la surveillance d'une fréquence d'occurrence de chacun des POI et du caractère critique des POI afin d'identifier des excursions de processus du dispositif ; et la détermination d'un niveau de risque de dispositif par calcul d'une fréquence de polygone normalisée pour le dispositif en utilisant une fréquence d'occurrence pour chacun des polygones critiques et un caractère critique pour chacun des polygones critiques, les polygones critiques étant définis à l'aide de données de conception du dispositif.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)