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1. (WO2012115255) LIGHT-SHIELDING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING A LIGHT-SHIELDING COMPOSITION, SOLDER RESIST, METHOD FOR FORMING A PATTERN, AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/115255    International Application No.:    PCT/JP2012/054672
Publication Date: 30.08.2012 International Filing Date: 17.02.2012
IPC:
G02B 5/22 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 27/14 (2006.01), H05K 3/28 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (For All Designated States Except US).
MURO, Naotsugu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAMADA, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KUBOTA, Makoto [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MURO, Naotsugu; (JP).
TAMADA, Yoshinori; (JP).
KUBOTA, Makoto; (JP)
Agent: NAKAJIMA, Jun; TAIYO, NAKAJIMA & KATO Seventh Floor, HK-Shinjuku Bldg. 3-17, Shinjuku 4-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Priority Data:
2011-040505 25.02.2011 JP
2011-102134 28.04.2011 JP
2011-146871 30.06.2011 JP
Title (EN) LIGHT-SHIELDING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING A LIGHT-SHIELDING COMPOSITION, SOLDER RESIST, METHOD FOR FORMING A PATTERN, AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE
(FR) COMPOSITION DE PROTECTION CONTRE LA LUMIÈRE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, ÉPARGNE DE SOUDAGE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF ET DISPOSITIF D'IMAGERIE TRANSISTORISÉ
Abstract: front page image
(EN)The invention provides a light-shielding composition which has suitability for thick film formation, provides a film having an excellent coating uniformity, has thickness uniformity on uneven surface, and has an excellent light-shielding property of light in an infrared region. The light-shielding composition includes: (A) any one of a light-shielding particle or a light-shielding dye; (B) a first filler having a particle diameter of from 100 nm to 3,000 nm, the particle diameter being a maximum value in a particle diameter distribution of the first filler; and (C) a second filler having a particle diameter of from 5 nm to 90 nm, the particle diameter being a maximum value in a particle diameter distribution of the second filler.
(FR)La présente invention concerne une composition de protection contre la lumière qui convient à la formation d'un film épais, ainsi qu'un film ayant une excellente uniformité de revêtement, une uniformité d'épaisseur sur une surface irrégulière et une excellente propriété de protection contre la lumière dans une région infrarouge. La composition de protection contre la lumière contient : (A) une particule ou un colorant de protection contre la lumière ; (B) un premier produit de charge ayant un diamètre de particules allant de 100 nm à 3000 nm, le diamètre de particules étant une valeur maximale dans une distribution d'un diamètre de particules du premier produit de charge ; et (C) un second produit de charge ayant un diamètre de particules allant de 5 nm à 90 nm, le diamètre de particules étant une valeur maximale dans une distribution d'un diamètre de particules du second produit de charge.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)