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1. (WO2012114864) SILANE COMPOUND AND COMPOSITION FOR FORMATION OF MONOLAYER OR MULTILAYER USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/114864    International Application No.:    PCT/JP2012/052713
Publication Date: 30.08.2012 International Filing Date: 07.02.2012
IPC:
C07F 7/18 (2006.01), C07C 381/12 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01)
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kandanishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010054 (JP) (For All Designated States Except US).
KISHIOKA, Takahiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAKUMA, Daisuke [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KISHIOKA, Takahiro; (JP).
SAKUMA, Daisuke; (JP)
Agent: HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010062 (JP)
Priority Data:
2011-038626 24.02.2011 JP
Title (EN) SILANE COMPOUND AND COMPOSITION FOR FORMATION OF MONOLAYER OR MULTILAYER USING SAME
(FR) COMPOSÉ SILANE ET COMPOSITION POUR LA FORMATION D'UNE MONOCOUCHE OU D'UNE MULTICOUCHE À L'AIDE DE CELUI-CI
(JA) シラン化合物及びそれを用いた単分子層又は多分子層形成用組成物
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide a novel silane compound and a composition for formation of a monolayer or a multilayer on a substrate. [Solution] A composition for formation of a monolayer or a multilayer containing a silane compound represented by formula (1A) or formula (1B), and an organic solvent. [Chem 1] [In the formulae, each R1 independently represents a methyl group or an ethyl group, each X independently represents a C1-10 linking group, Z represents a phthalic imide group, a maleimide group, or a succinic imide group which may have at least one substituent, each Ar independently represents a phenyl group or a naphthyl group, and the linking group represented by X may contain at least one oxygen atom or sulfur atom in the main chain, and when the Ar is a phenyl group, the phenyl group may have at least one substituent.]
(FR)La présente concerne un nouveau composé silane et une composition pour la formation d'une monocouche ou d'une multicouche sur un substrat. L'invention concerne une composition pour la formation d'une monocouche ou d'une multicouche contenant un composé silane représenté par la formule (1A) ou la formule (1B), et un solvant organique. [Chem 1] [Dans les formules, chaque R1 représente indépendamment un groupe méthyle ou un groupe éthyle, chaque X représente indépendamment un groupe de liaison en C1-10, Z représente un groupe imide phtalique, un groupe maléimide, ou un groupe imide succinique qui peut avoir au moins un substituant, chaque Ar représente indépendamment un groupe phényle ou un groupe naphtyle, et le groupe de liaison représenté par X peut contenir au moins un atome d'oxygène ou atome de soufre dans la chaîne principale, et lorsqu'Ar est un groupe phényle, le groupe phényle peut avoir au moins un substituant.]
(JA)【課題】 新規なシラン化合物、及び基板上に単分子層又は多分子層を形成するための組成物を提供する。 【解決手段】 下記式(1A)又は下記式(1B): [式中、R1はそれぞれ独立にメチル基又はエチル基を表し、Xはそれぞれ独立に炭素原子数1乃至10の連結基を表し、Zは置換基を少なくとも1つ有してもよい、フタル酸イミド基、マレイミド基又はコハク酸イミド基を表し、Arはそれぞれ独立にフェニル基又はナフチル基を表し、前記Xで表される連結基は少なくとも1つの酸素原子又は硫黄原子を主鎖に含んでいてもよく、前記Arがフェニル基を表す場合、該フェニル基は置換基を少なくとも1つ有してもよい。] で表されるシラン化合物及び有機溶剤を含む、単分子層又は多分子層形成用組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)