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1. (WO2012114410) PATTERN MATCHING APPARATUS, AND COMPUTER PROGRAM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/114410    International Application No.:    PCT/JP2011/006906
Publication Date: 30.08.2012 International Filing Date: 12.12.2011
IPC:
G06T 7/00 (2006.01), G01N 23/225 (2006.01), G06T 1/00 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (For All Designated States Except US).
NAGATOMO, Wataru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ABE, Yuichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKASHIMA, Keisuke [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAGATOMO, Wataru; (JP).
ABE, Yuichi; (JP).
NAKASHIMA, Keisuke; (JP)
Agent: INOUE, Manabu; c/o HITACHI,LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Priority Data:
2011-039187 25.02.2011 JP
Title (EN) PATTERN MATCHING APPARATUS, AND COMPUTER PROGRAM
(FR) APPAREIL D'APPARIEMENT DE MOTIFS ET PROGRAMME INFORMATIQUE
(JA) パターンマッチング装置、及びコンピュータープログラム
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a pattern matching apparatus or the like that highly accurately performs pattern matching with respect to an image that includes a plurality of regions having different kinds of features, such as a pattern image that includes a plurality of layers. In order to achieve the above-mentioned purpose, this invention proposes a pattern matching apparatus that performs pattern matching on a target image using a template that is formed on the basis of design data or a picked up image. In the pattern matching apparatus, pattern matching is performed with respect to a first target image using a first template that includes a plurality of different target patterns, a second target image is generated on the basis of the first target image by removing information of a region that includes a specified pattern, and a degree of similarity between the second target image and a second template that includes pattern information other than the information of the specified pattern is determined.
(FR)La présente invention a pour objet de pourvoir à un appareil d'appariement de motifs ou analogue qui effectue très précisément un appariement de motifs relativement à une image qui comprend une pluralité de régions comprenant différents types de caractéristiques, telle qu'une image de motif qui comprend une pluralité de couches. De manière à atteindre l'objet susmentionné, cette invention propose un appareil d'appariement de motifs qui effectue un appariement de motifs sur une image cible à l'aide d'un modèle qui est formé sur la base de données de dessin ou d'une image prise. Dans l'appareil d'appariement de motifs, un appariement de motifs est effectué relativement à une première image cible à l'aide d'un premier modèle qui comprend une pluralité de motifs cibles différents, une seconde image cible est générée sur la base de la première image cible par élimination d'informations d'une région qui comprend un motif spécifié, et un degré de similarité entre la seconde image cible et un second modèle qui comprend des informations de motif autres que les informations du motif spécifié est déterminé.
(JA) 本発明は、複数層を含むパターン画像のように、異種の特徴を持つ複数の領域が含まれる画像に対するパターンマッチングを高精度に行うパターンマッチング装置等の提供を目的とする。 上記目的を達成するために本発明では、設計データ、或いは撮像画像に基づいて形成されたテンプレートを用いて、対象画像上でパターンマッチングを実行するパターンマッチング装置であって、異なる複数の対象パターンを含む第1のテンプレートを用いて、第1の対象画像に対するパターンマッチングを実行し、第1の対象画像から、特定パターンを含む領域の情報を除外して第2の対象画像を作成し、当該第2の対象画像と、前記特定パターン以外のパターン情報を含む第2のテンプレートとの間の類似度判定を行うパターンマッチング装置を提案する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)