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Pub. No.:    WO/2012/113792    International Application No.:    PCT/EP2012/052935
Publication Date: 30.08.2012 International Filing Date: 21.02.2012
C23C 14/56 (2006.01), C03C 17/00 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US) (For All Designated States Except US).
KOPARAL, Erkan [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KLOEPPEL, Andreas [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: KOPARAL, Erkan; (DE).
KLOEPPEL, Andreas; (DE)
Agent: ZIMMERMANN, Gerd; Zimmermann & Partner Josephspitalstr. 15 80331 München (DE)
Priority Data:
11155238.6 21.02.2011 EP
Abstract: front page image
(EN)A substrate processing system for processing an essentially vertically oriented substrate is described. The system includes a first disposition chamber (101) having a first processing region and being adapted to deposit a first layer comprising a first material; a second deposition chamber (102) having a second processing region and being adapted to deposit a second layer over the first layer, the second layer comprising a second material; a third deposition chamber (103) having a third processing region and being adapted to deposit a layer comprising the second material; a transfer chamber (111) providing essentially linear transport paths with the first, the second, and the third deposition chambers, respectively; and a further chamber (121) comprising a first and a second transportation track (163,164), wherein at least one of the first and second transportation tracks forms an essentially linear transportation path with the first processing chamber, wherein the first deposition chamber (101) is adapted to receive the substrate from the transfer chamber, and to deposit a further layer comprising the first material.
(FR)La présente invention concerne un système de traitement de substrat permettant de traiter un substrat orienté sensiblement verticalement. Le système comprend une première chambre de dépôt (101) qui comporte une première région de traitement et qui est conçue pour le dépôt d'une première couche contenant un premier matériau ; une deuxième chambre de dépôt (102) qui comporte une deuxième région de traitement et qui est conçue pour le dépôt d'une deuxième couche sur la première couche, la deuxième couche contenant un second matériau ; une troisième chambre de dépôt (103) qui comporte une troisième région de traitement et qui est conçue pour le dépôt d'une couche contenant le second matériau ; une chambre de transfert (111) établissant des trajectoires de transport sensiblement linéaires par rapport aux première, deuxième et troisième chambres de dépôt respectivement ; et une chambre supplémentaire (121) comprenant des première et seconde voies de transport (163, 164). Au moins une des première et seconde voies de transport forme une trajectoire de transport sensiblement linéaire par rapport à la première chambre de traitement. La première chambre de dépôt (101) est conçue pour recevoir le substrat provenant de la chambre de transfert et pour le dépôt d'une couche supplémentaire contenant le premier matériau.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)