WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2012112290) OPTICAL IMAGING SYSTEM WITH LASER DROPLET PLASMA ILLUMINATOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/112290    International Application No.:    PCT/US2012/023149
Publication Date: 23.08.2012 International Filing Date: 30.01.2012
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; KLA-Tencor Corporation Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US) (For All Designated States Except US).
SOLARZ, Richard W. [US/US]; (US) (For US Only).
DURANT, Stephane P. [US/US]; (US) (For US Only).
HWANG, Shiow-Hwei [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SOLARZ, Richard W.; (US).
DURANT, Stephane P.; (US).
HWANG, Shiow-Hwei; (US)
Agent: MCANDREWS, Kevin; Kla-tencor Corporation Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Priority Data:
13/026,926 14.02.2011 US
Title (EN) OPTICAL IMAGING SYSTEM WITH LASER DROPLET PLASMA ILLUMINATOR
(FR) SYSTÈME D'IMAGERIE OPTIQUE À DISPOSITIF D'ÉCLAIRAGE À PLASMA DE GOUTTELETTES LASER
Abstract: front page image
(EN)A wafer inspection system includes a laser droplet plasma (LDP) light source that generates light with sufficient radiance to enable bright field inspection at wavelengths down to 40 nanometers. Light generated by the LDP source is directed to the wafer and light from the illuminated wafer is collected by a high NA objective with all reflective elements. A detector detects the collected light for further image processing. The LDP source includes a droplet generator that dispenses droplets of a feed material. An excitation light generated by a laser is focused on a droplet of the feed material. The interaction of the excitation light with the droplet generates a plasma that emits illumination light with a radiance of at least 10 W/mm2-sr within a spectral range from 40 nanometers to 200 nanometers.
(FR)L'invention porte sur un système d'inspection de tranche qui comprend une source de lumière à plasma de gouttelettes laser (LDP) qui génère de la lumière ayant une luminance énergétique suffisante pour permettre une inspection à fond clair à des longueurs d'onde descendant jusqu'à 40 nanomètres. De la lumière générée par la source LDP est dirigée par la tranche et de la lumière provenant de la tranche éclairée est collectée par un objectif à ouverture numérique élevée à éléments tous réflecteurs. Un détecteur détecte la lumière collectée en vue d'un traitement d'image supplémentaire. La source LDP comprend un générateur de gouttelettes qui distribue des gouttelettes d'une substance germe. Une lumière d'excitation générée par un laser est focalisée sur une gouttelette de la substance germe. L'interaction de la lumière d'excitation avec la gouttelette génère un plasma qui émet de la lumière d'éclairage ayant une luminance énergétique d'au moins 10 W/mm2-sr dans une plage spectrale s'étalant de 40 nanomètres à 200 nanomètres.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)