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1. (WO2012112238) PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE AND THERMAL PROCESSING OF THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/112238    International Application No.:    PCT/US2012/020901
Publication Date: 23.08.2012 International Filing Date: 11.01.2012
IPC:
G03F 7/26 (2006.01)
Applicants: MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC [US/US]; 245 Freight Street Waterbury, CT 06702 (US) (For All Designated States Except US).
RECCHIA, David, A. [US/US]; (US) (For US Only).
BLAIR, Joseph, H. [US/US]; (US) (For US Only).
VEST, Ryan, W. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: RECCHIA, David, A.; (US).
BLAIR, Joseph, H.; (US).
VEST, Ryan, W.; (US)
Agent: CORDANI, John, L.; Carmody & Torrance LLP 50 Leaverworth Street P.O. Box 1110 Waterbury, CT 06721-1110 (US)
Priority Data:
13/030,810 18.02.2011 US
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE AND THERMAL PROCESSING OF THE SAME
(FR) STRATIFIÉ DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET SON TRAITEMENT THERMIQUE
Abstract: front page image
(EN)Thermally developing a photocurable printing blank to produce a relief pattern comprising a plurality of relief dots. The photocurable printing blank comprises a backing layer having at least one photocurable layer disposed thereon and a laser ablatable mask layer disposed on top of the at least one photocurable layer. The method includes: (1 ) imaging a photo curable layer by ablating the mask layer to create the relief pattern; (2) laminating an oxygen barrier membrane atop the ablated mask layer; (3) exposing the printing blank to actinic radiation through the oxygen barrier membrane and ablated mask layer to selectively crosslink and cure portions of the photocurable layer, thereby creating the relief pattern; (4) removing the oxygen barrier membrane from atop the ablated mask layer; and (5) thermally developing the printing blank to remove the ablated mask layer and uncured portions of the photo curable layer and reveal the relief pattern.
(FR)L'invention a pour objet de développer thermiquement un support vierge photodurcissable d'impression pour produire un motif en relief comportant une pluralité de points en relief. Le support vierge photodurcissable d'impression comporte une couche dorsale sur laquelle est disposée au moins une couche photodurcissable et une couche de masque ablatable au laser disposée par-dessus la ou les couches photodurcissables. Le procédé comporte des étapes consistant à : (1) capturer une image d'une couche photodurcissable par ablation de la couche de masque pour créer le motif en relief ; (2) stratifier une membrane formant barrière contre l'oxygène par-dessus la couche de masque ablatée ; (3) exposer le support vierge d'impression à un rayonnement actinique à travers la membrane formant barrière contre l'oxygène et la couche de masque ablatée pour réticuler et durcir sélectivement des parties de la couche photodurcissable, créant ainsi le motif en relief ; (4) retirer la membrane formant barrière contre l'oxygène du dessus de la couche de masque ablatée ; et (5) développer thermiquement le support vierge d'impression pour éliminer la couche de masque ablatée et les parties non durcies de la couche photodurcissable et révéler le motif en relief.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)