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1. (WO2012112023) SINGLE AND DUAL STAGE WAFER CUSHION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/112023    International Application No.:    PCT/MY2011/000037
Publication Date: 23.08.2012 International Filing Date: 22.04.2011
IPC:
H01L 21/673 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
Applicants: TEXCHEM ADVANCED PRODUCTS INCORPORATED SDN. BHD. [MY/MY]; Part of Lot 1241, Phase 3 Bayan Lepas Free Industrial Zone 11900 Bayan Lepas, Penang (MY) (For All Designated States Except US).
PYLANT, James, D. [US/US]; (US) (For US Only).
WABER, Alan, L. [US/US]; (US) (For US Only).
MACK, Christopher, R. [US/US]; (US) (For US Only).
MILLER, David, A. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: PYLANT, James, D.; (US).
WABER, Alan, L.; (US).
MACK, Christopher, R.; (US).
MILLER, David, A.; (US)
Agent: LEONG, Weng Khuan; Leong, Ng & Tan Suites 802 & 803 8th Floor, MWE Plaza No. 8, Farquhar Street 10200 Penang (MY)
Priority Data:
13/028,945 16.02.2011 US
Title (EN) SINGLE AND DUAL STAGE WAFER CUSHION
(FR) AMORTISSEUR DE PLAQUETTE À SIMPLE ET DOUBLE PLATINE
Abstract: front page image
(EN)Improvements in a single and dual stage wafer cushion is disclosed where the wafer cushion can use an edge hinge as a single first stage cushion and a second mid span hinge for the dual stage wafer cushion. This dual stage design gives two distinctly different cushioning forces as opposed to using a single stage design where the force is linear with the amount of compression that is being applied to the outer surfaces of the wafer cushion. The outside edge of the ring provides the greatest expansion such that only the outer edge of the ring makes contact with the outer edge of a wafer. The wafer cushion is a material that flexes and absorbs shocks before the shock is transferred to the wafer stack. The material minimizes debris or contaminants from embedding into the wafer cushion and also prevents sheading of material from the wafer cushion.
(FR)La présente invention concerne des améliorations apportées à un amortisseur de plaquette à simple et double platine, l'amortisseur de plaquette pouvant utiliser une charnière de bordure comme première platine d'amortisseur simple et une seconde charnière de portée médiane pour l'amortisseur de plaquette de platine double. Ce modèle de platine double donne deux forces d'amortissement différentes l'une de l'autre par opposition à l'utilisation d'un modèle de platine simple, pour lequel la force est linéaire avec la compression appliquée sur les surfaces externes de l'amortisseur de plaquette. La bordure externe de l'anneau subit la plus grande augmentation de telle sorte que seule la bordure externe de l'anneau se trouve en contact avec le bord externe d'une plaquette. L'amortisseur de plaquette est un matériau qui plie et absorbe des chocs avant que le choc ne soit transféré à l'empilement de plaquette. Le matériau minimise le risque de voir des débris ou des contaminants s'incorporer dans l'amortisseur de plaquette, et prévient également le cisaillement du matériau provenant de l'amortisseur de plaquette.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)