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1. (WO2012111763) FRICTION MATERIAL AND FRICTION MATERIAL PRODUCTION METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/111763    International Application No.:    PCT/JP2012/053689
Publication Date: 23.08.2012 International Filing Date: 16.02.2012
IPC:
C09K 3/14 (2006.01)
Applicants: AKEBONO BRAKE INDUSTRY CO., LTD. [JP/JP]; 19-5, Nihonbashi Koami-cho, Chuo-ku, Tokyo 1038534 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKAHASHI Yuki; (For US Only).
KURIHARA Shou; (For US Only).
KAWAKAMI Yosuke; (For US Only)
Inventors: TAKAHASHI Yuki; .
KURIHARA Shou; .
KAWAKAMI Yosuke;
Agent: OGURI Shohei; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2011-033399 18.02.2011 JP
2011-044339 01.03.2011 JP
2011-284262 26.12.2011 JP
Title (EN) FRICTION MATERIAL AND FRICTION MATERIAL PRODUCTION METHOD
(FR) MATÉRIAU DE FRICTION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MATÉRIAU DE FRICTION
(JA) 摩擦材及び摩擦材の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are a highly heat-resistant friction material that is suitable for high heat / high loads and can be produced by simply adding a baking process to processes that are similar to those for organic friction materials, and a production method therefor. The friction material, obtained from a fiber matrix, a friction-adjusting material, a binder and an inorganic material, is produced by thermoforming a raw material that comprises a silicon-containing polymer and a nanoparticle material or swelling clay minerals, then heat-treating at a temperature of 160 - 350°C for one to ten hours in an oxidizing atmosphere to cross-link the silicon-containing polymer with oxygen, and then baking. Selecting one or more compounds from the group consisting of polycarbosilane, polyorganoborosilazane, polyborosiloxane, polycarbosilazane, and perhydropolysilazane for the silicon-containing polymer is desirable.
(FR)La présente invention concerne un matériau de friction hautement résistant à la chaleur pouvant être utilisé à haute température/sous une charge élevée et pouvant être fabriqué en ajoutant simplement un processus de cuisson aux processus utilisés pour les matériaux de friction organiques. L'invention concerne également le procédé de production dudit matériau de friction. Ledit matériau de friction, obtenu à partir d'une matrice fibreuse, d'un matériau d'ajustement de la friction, d'un liant et d'un matériau inorganique, est produit par thermoformage d'une matière première comportant un polymère contenant du silicium et un matériau nanoparticulaire ou des minéraux argileux pouvant se dilater, puis est soumis à un traitement thermique à une température de 160 à 350 °C pendant une à dix heures sous atmosphère oxydante afin de réticuler le polymère contenant du silicium avec de l'oxygène, cela étant suivi d'une cuisson. Il est souhaitable de faire appel, au titre de polymère contenant du silicium, à un ou plusieurs composés choisis parmi le polycarbosilane, le polyorganoborosilazane, le polyborosiloxane, le polycarbosilazane et le perhydropolysilazane.
(JA) 高温・高負荷に適合し、有機系摩擦材と同様な工程に焼成工程を付け加えるだけで製造できる高耐熱性摩擦材及びその製造方法を提供する。 繊維基材、摩擦調整材、結合材及び無機材料よりなる摩擦材において、ケイ素含有ポリマーとナノ粒子材料又は膨潤性粘土鉱物とを含有する原材料を熱成形の後、160~350℃の温度で、1~10時間の間、酸化雰囲気で熱処理して、ケイ素含有ポリマーを酸素と架橋させた後、焼成して、摩擦材を製造する。前記ケイ素含有ポリマーがポリカルボシラン、ポリオルガノボロシラザン、ポリボロシロキサン、ポリカルボシラザン、パーヒドロポリシラザンの群から1つ又は2つ以上の化合物を選ぶことが好ましい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)