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1. (WO2012111585) POROUS ALUMINUM AND PROCESS FOR PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/111585    International Application No.:    PCT/JP2012/053218
Publication Date: 23.08.2012 International Filing Date: 13.02.2012
IPC:
C25D 1/08 (2006.01), C22C 1/08 (2006.01), C25D 3/66 (2006.01), C25D 5/56 (2006.01), C25D 7/00 (2006.01), H01M 4/66 (2006.01), H01M 4/80 (2006.01), C22C 21/00 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES,LTD. [JP/JP]; 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041 (JP) (For All Designated States Except US).
KIMURA, Koutarou [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HOSOE, Akihisa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OKUNO, Kazuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OHTA, Hajime [JP/JP]; (JP) (For US Only).
GOTO, Kengo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NISHIMURA, Junichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KIMURA, Koutarou; (JP).
HOSOE, Akihisa; (JP).
OKUNO, Kazuki; (JP).
OHTA, Hajime; (JP).
GOTO, Kengo; (JP).
NISHIMURA, Junichi; (JP)
Agent: NAKATA, Motomi; c/o Sumitomo Electric Industries, Ltd., 1-3, Shimaya 1-chome, Konohana-ku, Osaka-shi, Osaka 5540024 (JP)
Priority Data:
2011-032785 18.02.2011 JP
2011-111025 18.05.2011 JP
Title (EN) POROUS ALUMINUM AND PROCESS FOR PRODUCING SAME
(FR) ALUMINIUM POREUX ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) アルミニウム多孔体及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a method in which the urethane resin is easily removed from an aluminum structure obtained by forming an aluminum film on the surface of a porous urethane resin having a three-dimensional network structure, while preventing the aluminum from oxidizing. The method is a process for producing a porous aluminum which is characterized by forming an aluminum film having a purity of 99.9 mass% or higher on the surface of a porous urethane resin having a three-dimensional network structure to obtain an aluminum structure composed of the porous urethane resin and the aluminum film and heat-treating the aluminum structure in the air at a temperature of 370ºC or higher but less than 660ºC to remove the urethane resin and thereby obtain the porous aluminum.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant de retirer facilement de la résine uréthanique d'une structure d'aluminium obtenue en formant un film d'aluminium sur la surface d'une résine uréthanique poreuse ayant une structure de réseau tridimensionnelle, tout en empêchant l'oxydation de l'aluminium. La méthode est un procédé de production d'un aluminium poreux qui est caractérisé par la formation d'un film d'aluminium d'une pureté supérieure ou égale à 99,9 % en masse sur la surface d'une résine uréthanique poreuse ayant une structure de réseau tridimensionnelle de façon à obtenir une structure d'aluminium composée de la résine uréthanique poreuse et du film d'aluminium, puis par le traitement thermique de la structure d'aluminium dans l'air à une température supérieure ou égale à 370 ºC et inférieure à 660 ºC de façon à retirer la résine uréthanique et à obtenir ainsi l'aluminium poreux.
(JA) 三次元網目構造を有するウレタン樹脂多孔体の表面にアルミニウム膜を形成したアルミニウム構造体からアルミニウムが酸化しないようにしてウレタン樹脂を簡便に除去する方法を提供する。三次元網目構造を有するウレタン樹脂多孔体の表面に純度99.9質量%以上のアルミニウム膜を形成してウレタン樹脂多孔体とアルミニウム膜とからなるアルミニウム構造体を得て、このアルミニウム構造体を大気下で370℃以上660℃未満で熱処理することによりウレタン樹脂を除去してアルミニウム多孔体を得ることを特徴とするアルミニウム多孔体の製造方法。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)