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1. (WO2012111450) PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/111450    International Application No.:    PCT/JP2012/052431
Publication Date: 23.08.2012 International Filing Date: 02.02.2012
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (For All Designated States Except US).
SAKAKIBARA Hirokazu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FURUKAWA Taiichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIYATA Hiromu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ITO Koji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SAKAKIBARA Hirokazu; (JP).
FURUKAWA Taiichi; (JP).
MIYATA Hiromu; (JP).
ITO Koji; (JP)
Agent: AMANO Kazunori; c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025 (JP)
Priority Data:
2011-029101 14.02.2011 JP
Title (EN) PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE
(JA) フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a photoresist composition to be developed with an organic solvent, which is characterized by comprising [A] a polymer having an acid-labile group, [B] an acid generator, and [C] a compound having both at least one group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a group that can be converted into a carboxyl group by the action of an acid and a group having a lactone structure and a ring structure and having a molecular weight of 1,000 or less. The ring structure in the compound [C] is preferably a polycyclic alicyclic structure. The compound [C] is preferably at least one compound selected from the group consisting of compounds respectively represented by formulae (1)-(3).
(FR)La présente invention a trait à une composition de résine photosensible devant être développée à l'aide d'un solvant organique qui est caractérisée en ce qu'elle comprend : [A] un polymère possédant un groupe labile en milieu acide; [B] un générateur d'acide; et [C] un composé qui comporte au moins un groupe sélectionné parmi un groupe hydroxyle, un groupe carboxyle, un groupe pouvant se transformer en groupe carboxyle sous l'action d'un acide et un groupe présentant une structure de lactone, et qui comporte également une structure cyclique et qui a une masse moléculaire inférieure ou égale à 1 000. La structure cyclique dans le composé [C] est de préférence une structure alicyclique polycyclique. Le composé [C] est de préférence au moins un composé sélectionné dans le groupe constitué par des composés représentés respectivement par les formules (1) à (3).
(JA) 本発明は、有機溶媒現像用フォトレジスト組成物であって、[A]酸解離性基を有する重合体、[B]酸発生体、及び[C]水酸基、カルボキシル基、酸の作用によりカルボキシル基を生じる基及びラクトン構造を有する基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基と環構造とを有し、かつ分子量が1,000以下である化合物を含有することを特徴とする。[C]化合物の環構造は多環状の脂環式構造であることが好ましい。[C]化合物は下記式(1)~(3)でそれぞれ表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)