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1. (WO2012109489) LOW GLOSS IONOMER-BASED CAPSTOCK
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/109489    International Application No.:    PCT/US2012/024553
Publication Date: 16.08.2012 International Filing Date: 09.02.2012
IPC:
C08L 23/06 (2006.01), C08K 3/08 (2006.01), C08K 3/36 (2006.01), C08K 3/30 (2006.01), B32B 27/18 (2006.01)
Applicants: POLYONE CORPORATION [US/US]; 33587 Walker Road Avon Lake, Ohio 44012 (US) (For All Designated States Except US).
MAJEWSKI, Thomas [US/US]; (US) (For US Only).
RAJARAMAN, Hari [US/US]; (US) (For US Only).
HAWRYLKO, Roman B. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: MAJEWSKI, Thomas; (US).
RAJARAMAN, Hari; (US).
HAWRYLKO, Roman B.; (US)
Agent: HORNICKEL, John H.; Polyone Corporation 33587 Walker Road Avon Lake, Ohio 44012 (US)
Priority Data:
61/441,592 10.02.2011 US
Title (EN) LOW GLOSS IONOMER-BASED CAPSTOCK
(FR) REVÊTEMENT DE SURFACE À BASE D'IONOMÈRE, À FAIBLE BRILLANCE
Abstract: front page image
(EN)A low gloss capstock compound is disclosed. The combination of gloss inhibiting agents, metal-based ionomer thermoplastic resins, and acid scavenger added to conventional polyethylene polymer resin achieves a gloss angle at 85° of below 10 GU. Optionally, the compound can also include weathering agents to improve outdoor durability. The compound can be fully formulated or a masterbatch for let-down into polymer to form the fully formulated compound.
(FR)L'invention concerne composé de revêtement de surface à faible brillance. La combinaison d'agents d'inhibition de brillance, de résines thermoplastiques ionomères à base métallique et de capteur d'acide ajoutée à une résine polymère de polyéthylène classique permet d'obtenir un angle de brillance à 85° d'au-dessous 10 GU. Eventuellement, le composé peut également comprendre des agents de résistance aux intempéries pour améliorer la durabilité à l'extérieur. Le composé peut être complètement formulé ou un mélange-maître pour une dilution dans un polymère pour former le composé complètement formulé peut être utilisé.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)