WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2012109340) ELECTRON BEAM PROFILE MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD WITH "MOMS"
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/109340    International Application No.:    PCT/US2012/024312
Publication Date: 16.08.2012 International Filing Date: 08.02.2012
IPC:
G01T 1/29 (2006.01)
Applicants: ATTI INTERNATIONAL SERVICES COMPANY, INC. [US/US]; 110 Ricefield Lane Hauppauge, NY 111788-2008 (US) (For All Designated States Except US).
LEVI, Eli [US/US]; (US) (For US Only).
ABGARYAN, Artush A. [US/US]; (US) (For US Only).
LEDDY, Thomas [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: LEVI, Eli; (US).
ABGARYAN, Artush A.; (US).
LEDDY, Thomas; (US)
Agent: ROFFE, Brian; Law Office of Brian Roffe 8170 McCormick Boulevard, Suite 223 Skokie, IL 60076-2914 (US)
Priority Data:
61/440,443 08.02.2011 US
Title (EN) ELECTRON BEAM PROFILE MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD WITH "MOMS"
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE MESURE DE PROFIL DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS UTILISANT DES CAPTEURS « MOMS »
Abstract: front page image
(EN)Electron beam profile measurement method and system wherein a scanning system has a five-dimensional processing mechanism for measuring different cross sections of an e-beam profile in a path of the e-beam. Measurements are conducted using the scanning system by virtually dividing each cross section into a plurality of subsections and measuring independent current values of at least one wire (2) of the scanning system through which the electron beam passes from every pixel in each of the plurality of subsections. By providing relative movement between the scanning system and e-beam, e.g., moving the scanning system, the measured independent current values can be analyzed to obtain a distribution of current density of the cross-section of the e-beam.
(FR)L'invention porte sur un procédé et sur un système de mesure de profil de faisceau d'électrons, un système de balayage ayant un mécanisme de traitement à cinq dimensions afin de mesurer différentes sections transversales d'un profil de faisceau d'électrons dans un trajet du faisceau d'électrons. Les mesures sont effectuées à l'aide du système de balayage par la division virtuelle de chaque section transversale en une pluralité de sous-sections et par la mesure des valeurs de courant indépendantes d'au moins un fil (2) du système de balayage à travers lequel le faisceau d'électrons passe à partir de chaque pixel, dans chacune de la pluralité de sous-sections. En imprimant un mouvement relatif entre le système de balayage et le faisceau d'électrons, par exemple en déplaçant le système de balayage, les valeurs de courant indépendantes mesurées peuvent être analysées pour obtenir une distribution de densité de courant de la section transversale du faisceau d'électrons.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)