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1. (WO2012108367) QUATERNARY AMMONIUM SALT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/108367    International Application No.:    PCT/JP2012/052572
Publication Date: 16.08.2012 International Filing Date: 30.01.2012
IPC:
C07D 223/18 (2006.01), C07B 53/00 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01), C07C 249/02 (2006.01), C07C 251/24 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (For All Designated States Except US).
AIKAWA, Toshiaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IKEMOTO, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: AIKAWA, Toshiaki; (JP).
IKEMOTO, Tetsuya; (JP)
Agent: NAKAYAMA, Tohru; c/o Sumitomo Chemical Intellectual Property Service, Limited, 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5418550 (JP)
Priority Data:
2011-024654 08.02.2011 JP
Title (EN) QUATERNARY AMMONIUM SALT
(FR) SEL D'AMMONIUM QUATERNAIRE
(JA) 第4級アンモニウム塩
Abstract: front page image
(EN)A quaternary ammonium salt shown by formula (5) (in the formula, R1 represents a C1-4 alkyl group; R2 represents a C1-10 alkyl group; R3 represents a C1-10 alkyl group optionally substituted with one or more phenyl groups or a phenyl group optionally having one or more groups selected from the group consisting of a C1-10 alkyl group and a trifluoromethyl group; R4 represents a C1-4 alkyl group; R5 represents a C1-10 alkyl group; C* represents an asymmetric carbon atom; and X- represents a halide ion) can be used as a catalyst having superior stability under basic conditions.
(FR)L'invention concerne un sel d'ammonium quaternaire représenté par la formule (5) pouvant être utilisé en tant que catalyseur à stabilité élevée dans des conditions basiques. Dans la formule (5), R1 représente un groupe alkyle C1-4 ; R2 représente un groupe alkyle C1-10 ; R3 représente un groupe alkyle C1-10 éventuellement substitué par un ou plusieurs groupes phényle ou un groupe phényle comprenant éventuellement un ou plusieurs groupes sélectionnés dans le groupe constitué par un groupe alkyle C1-10 et un groupe trifluorométhyle ; R4 représente un groupe alkyle C1-4 ; R5 représente un groupe alkyle C1-10 ; C* représente un atome de carbone asymétrique ; et X- représente un ion halide.
(JA)式(5)(式中、Rは、炭素数1~4のアルキル基を表し、Rは、炭素数1~10のアルキル基を表し、Rは、一以上のフェニル基で置換されていてもよい炭素数1~10のアルキル基又は炭素数1~10のアルキル基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる一以上の基を有していてもよいフェニル基を表し、Rは、炭素数1~4のアルキル基を表し、Rは、炭素数1~10のアルキル基を表し、Cは、不斉炭素原子を表し、Xは、ハロゲン化物イオンを表す。)で示される第4級アンモニウム塩は、塩基性条件下での安定性に優れた触媒として使用できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)