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1. (WO2012108263) SUBSTRATE HOLDING DEVICE AND EXPOSURE DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/108263    International Application No.:    PCT/JP2012/051537
Publication Date: 16.08.2012 International Filing Date: 25.01.2012
IPC:
H01L 21/683 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (For All Designated States Except US).
SHINDOH, Taisuke; (For US Only)
Inventors: SHINDOH, Taisuke;
Agent: UENO, Noboru; KS Iseya Building 8th Floor, 21-23, Sakae 3-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600008 (JP)
Priority Data:
2011-024649 08.02.2011 JP
Title (EN) SUBSTRATE HOLDING DEVICE AND EXPOSURE DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE SUPPORT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF D'EXPOSITION
(JA) 基板保持装置および露光装置
Abstract: front page image
(EN)Provided are an exposure device and a substrate holding device that are able to suppress or prevent a substrate from becoming mispositioned and waviness from arising in a substrate held on a base member. The present invention is provided with: a base member (10); a supporting means (20) that operates a plurality of supporting members (21) provided advanceably/retreatabaly from the upper surface of the base member (10); a suction means (30) that operates a plurality of suction elements (31) that are formed on the upper surface of the base member (10); and a control means that, from a state wherein the plurality of support members (21) are uniformly protruded from the upper surface of the base member (10) and a flexible substrate (90) is supported on the uniformly protruded plurality of support members (21), controls the support means (20) in a manner so that the support members (21) are lowered sequentially from the one or plurality of support members (21) near the center of the substrate (90), controls the suction means (30) in a manner so that the suction elements (31) are caused to perform a suction operation sequentially from the one or plurality of suction elements (31) near the center of the substrate (90), thus causing the substrate (90) to be held on the base member (10).
(FR)La présente invention concerne un dispositif d'exposition et un dispositif de support de substrat qui sont capables de supprimer ou prévenir un mauvais positionnement d'un substrat et la survenue d'une ondulation dans un substrat soutenu sur un composant de base. La présente invention comprend : un composant de base (10) ; des moyens de support (20) qui actionnent une pluralité de composants de support (21) disposés de façon à avancer/se rétracter depuis la surface supérieure du composant de base (10) ; des moyens d'aspiration (30) qui actionnent une pluralité d'éléments d'aspiration (31) qui sont formés sur la surface supérieure du composant de base (10) ; et des moyens de commande qui, depuis un état dans lequel la pluralité de composants de support (21) sont uniformément saillants depuis la surface supérieure du composant de base (10) et un substrat flexible (90) est soutenu sur la pluralité de composants de support uniformément saillants (21), commandent les moyens de support (20) de telle manière que les composants de support (21) soient abaissés séquentiellement depuis les un ou plusieurs composants de support (21) à proximité du centre du substrat (90), commandent les moyens d'aspiration (30) de telle manière que les éléments d'aspiration (31) soient amenés à effectuer une opération d'aspiration séquentiellement depuis les un ou plusieurs éléments d'aspiration (31) à proximité du centre du substrat (90), de manière à amener le substrat (90) à être maintenu sur le composant de base (10).
(JA)ベース部材上に保持される基板にうねりが発生したり、基板が位置ずれしたりすることを防止または抑制する基板保持装置および露光装置を提供すること。ベース部材(10)と、このベース部材(10)の上面から進退動自在に設けられた複数の支持部材(21)を動作させる支持手段(20)と、ベース部材(10)の上面に形成された複数の吸着要素(31)を動作させる吸着手段(30)と、ベース部材(10)の上面から複数の支持部材(21)を均等に突出させ、この均等に突出した複数の支持部材(21)の上に可撓性のある基板(90)が支持された状態から、基板(90)の中央に近い一または複数の支持部材(21)から順に支持部材(21)を引き下げるように支持手段(20)を制御するとともに、基板(90)の中央に近い一または複数の吸着要素(31)から順に吸着要素(31)を吸着動作させるように吸着手段(30)を制御し、基板(90)を前記ベース部材(10)上に保持させる制御手段と、を備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)