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1. (WO2012107862) DIFFERENTIAL PHASE-CONTRAST IMAGING WITH INCREASED DYNAMIC RANGE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/107862    International Application No.:    PCT/IB2012/050484
Publication Date: 16.08.2012 International Filing Date: 02.02.2012
IPC:
G21K 1/06 (2006.01)
Applicants: KONINKLIJKE PHILIPS N.V. [NL/NL]; High Tech Campus 5 NL-5656 AE Eindhoven (NL) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
PHILIPS INTELLECTUAL PROPERTY & STANDARDS GMBH [DE/DE]; Lübeckertordamm 5 20099 Hamburg (DE) (DE only).
KOEHLER, Thomas [DE/DE]; (NL) (For US Only).
RÖSSL, Ewald [DE/DE]; (NL) (For US Only)
Inventors: KOEHLER, Thomas; (NL).
RÖSSL, Ewald; (NL)
Agent: VAN VELZEN, Maaike, M.; High Tech Campus, Building 44 NL-5656 AE Eindhoven (NL)
Priority Data:
11153480.6 07.02.2011 EP
Title (EN) DIFFERENTIAL PHASE-CONTRAST IMAGING WITH INCREASED DYNAMIC RANGE
(FR) IMAGERIE À CONTRASTE DE PHASE DIFFÉRENTIEL PRÉSENTANT UNE PLAGE DYNAMIQUE ACCRUE
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to X-ray differential phase-contrast imaging. In order to enhance the information acquired by phase-contrast imaging, an analyzer grating (34) for X-ray differential phase-contrast imaging is provided with an absorption structure (48). The latter comprises a first plurality (50) of first areas (52) with a first X-ray attenuation, and a second plurality (54) of second areas (56) with a second X-ray attenuation. The second X-ray attenuation is smaller than the first X-ray attenuation, and the first and second areas are arranged periodically in an alternating manner. A third plurality (58) of third areas (60) is provided with a third X-ray attenuation, which lies in a range from the second X-ray attenuation to the first X-ray attenuation, wherein every second of the first or second areas is replaced by one of the third areas.
(FR)La présente invention porte sur une imagerie à contraste de phase différentiel par rayons X. Afin d'améliorer les informations acquises par l'imagerie à contraste de phase, un réseau d'analyseur (34) pour une imagerie à contraste de phase différentiel par rayons X comporte une structure d'absorption (48). Cette dernière comprend une première pluralité (50) de première zones (52) présentant une première atténuation de rayons X, et une deuxième pluralité (54) de deuxième zones (56) présentant une seconde atténuation de rayons X. La deuxième atténuation de rayons X est inférieure à la première atténuation de rayons X, et les première et deuxième zones sont disposées périodiquement d'une manière alternée. Une troisième pluralité (58) de troisièmes zones (60) comporte une troisième atténuation de rayons X, qui repose dans une plage allant de la deuxième atténuation de rayons X à la première atténuation de rayons X; chaque deuxième des première et deuxième zones est remplacée par l'une des troisièmes zones.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)