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1. (WO2012106121) FORMING A TEMPLATE WITH DISCRETE DOMAINS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/106121    International Application No.:    PCT/US2012/021781
Publication Date: 09.08.2012 International Filing Date: 18.01.2012
IPC:
G11B 5/62 (2006.01)
Applicants: SEAGATE TECHNOLOGY LLC [US/US]; 10200 S. De Anza Blvd Cupertino, California 95014 (US) (For All Designated States Except US).
XU, Yuan [CN/US]; (US) (For US Only).
LEE, Kim Y. [US/US]; (US) (For US Only).
HU, Wei [CN/US]; (US) (For US Only).
WAGO, Koichi [JP/US]; (US) (For US Only).
KUO, David S. [US/US]; (US) (For US Only).
CHAUHAN, Sundeep [IN/US]; (US) (For US Only)
Inventors: XU, Yuan; (US).
LEE, Kim Y.; (US).
HU, Wei; (US).
WAGO, Koichi; (US).
KUO, David S.; (US).
CHAUHAN, Sundeep; (US)
Agent: GALLENSON, Mavis S.; 5670 Wilshire Boulevard, Suite 2100 Los Angeles, California 90036 (US)
Priority Data:
13/018,416 31.01.2011 US
Title (EN) FORMING A TEMPLATE WITH DISCRETE DOMAINS
(FR) FORMATION D'UNE MATRICE À DOMAINES DISCRETS
Abstract: front page image
(EN)A method for nano-patterning includes imprinting features in a resist with an imprint mold to form one or more topographic surface patterns on the imprinted resist. A block copolymer ("BCP") material is deposited on the imprinted resist, wherein a molecular dimension Lo of the BCP material correlates by an integer multiple to a spacing dimension of the one or more topographic surface patterns on the imprinted resist. The deposited BCP is annealed and at least a portion of the annealed BCP is removed, forming a template having discrete domains.
(FR)L'invention porte sur un procédé pour la formation de nanomotifs comprenant l'impression d'éléments caractéristiques sur une réserve avec un moule d'impression pour former un ou plusieurs motifs topographiques de surface sur la réserve imprimée. Un matériau à base de copolymère séquencé (« BCP ») est déposé sur la réserve imprimée, une dimension moléculaire Lo du matériau à base de BCP étant corrélée par un multiple entier à une dimension d'espacement du ou des motifs topographiques de surface sur la réserve imprimée. Le BCP déposé est recuit et au moins une partie du BCP recuit est enlevée, ce qui forme une matrice ayant des domaines discrets.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)