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1. (WO2012105322) METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISC SUBSTRATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/105322    International Application No.:    PCT/JP2012/050993
Publication Date: 09.08.2012 International Filing Date: 18.01.2012
IPC:
G11B 5/84 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), B24B 37/10 (2012.01), C09K 3/14 (2006.01)
Applicants: KAO CORPORATION [JP/JP]; 14-10, Nihonbashi Kayabacho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038210 (JP) (For All Designated States Except US).
HAMAGUCHI Takeshi; (For US Only)
Inventors: HAMAGUCHI Takeshi;
Agent: IKEUCHI SATO & PARTNER PATENT ATTORNEYS; 26th Floor, OAP TOWER, 8-30, Tenmabashi 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5306026 (JP)
Priority Data:
2011-018680 31.01.2011 JP
2011-289756 28.12.2011 JP
Title (EN) METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISC SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION DE SUBSTRAT DE DISQUE MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気ディスク基板の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing a magnetic disc substrate enabling embedding of alumina to be reduced. The method for manufacturing a magnetic disc substrate has the following steps (1) through (4); that is, (1) a step for polishing a surface to be polished on a substrate to be polished, the surface being polished by using a polishing liquid composition A containing alumina particles and water; (2) a step for polishing the surface to be polished of the substrate obtained in step (1) by using a polishing liquid composition B containing silica particles and water, the silica particles having an average primary particle diameter (D50) of 5 to 60 nm, and the standard deviation of the primary particle diameter being less than 40 nm; (3) a step for cleaning the substrate obtained in step (2); and (4) a step for polishing the surface to be polished of the substrate obtained in step (3) using a polishing liquid composition C containing silica particles and water.
(FR)L'invention porte sur un procédé pour la fabrication d'un substrat de disque magnétique permettant de réduire l'incrustation d'alumine. Le procédé pour la fabrication d'un substrat de disque magnétique comprend les étapes (1) à (4) suivantes, à savoir : (1) une étape de polissage d'une surface devant être polie sur un substrat devant être poli, la surface étant polie à l'aide d'une composition liquide de polissage A contenant des particules d'alumine et de l'eau ; (2) une étape de polissage de la surface devant être polie du substrat obtenu dans l'étape (1) à l'aide d'une composition liquide de polissage B contenant des particules de silice et de l'eau, les particules de silice ayant un diamètre moyen des particules primaires (D50) de 5 à 60 nm et l'écart-type du diamètre des particules primaires étant inférieur à 40 nm ; (3) une étape de nettoyage du substrat obtenu dans l'étape (2) ; et (4) une étape de polissage de la surface devant être polie du substrat obtenu dans l'étape (3) à l'aide d'une composition liquide de polissage C contenant des particules de silice et de l'eau.
(JA) アルミナ突き刺さりを低減できる磁気ディスク基板の製造方法の提供。下記(1)~(4)の工程を有する、磁気ディスク基板の製造方法。 (1)アルミナ粒子及び水を含有する研磨液組成物Aを用いて被研磨基板の研磨対象面を研磨する工程、 (2)平均一次粒子径(D50)が5~60nmであり、一次粒子径の標準偏差が40nm未満であるシリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Bを用いて前記工程(1)で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程、 (3)工程(2)で得られた基板を洗浄する工程、 (4)シリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Cを用いて工程(3)で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)