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1. (WO2012105288) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMATION OF MICROLENSES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/105288    International Application No.:    PCT/JP2012/050479
Publication Date: 09.08.2012 International Filing Date: 12.01.2012
IPC:
G02B 1/04 (2006.01), C08F 212/02 (2006.01), C08F 216/14 (2006.01), C08F 222/40 (2006.01), C08F 232/08 (2006.01), G02B 3/00 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01)
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP) (For All Designated States Except US).
SAKAGUCHI, Takahiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SAKAGUCHI, Takahiro; (JP)
Agent: HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Priority Data:
2011-018458 31.01.2011 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMATION OF MICROLENSES
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR UNE FORMATION DE MICROLENTILLES
(JA) マイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide a photosensitive resin composition for the formation of microlenses. [Solution] A photosensitive resin composition for the formation of microlenses, comprising: (A) a copolymer which comprises maleimide structural units represented by formula (1), vinyl ether structural units represented by formula (2), and at least one kind of structural units represented by formula (3), (4) or (5); (B) a photosensitizer; and (C) a crosslinking agent. In the formulae, X is a C1-20 hydrocarbon group which may have either an ether bond or a cyclic structure; Y is an optionally substituted organic group; and Z is an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or an alkoxy group.
(FR)L'invention a pour but de proposer une composition de résine photosensible pour la formation de microlentilles. A cet effet, l'invention propose une composition de résine photosensible pour la formation de microlentilles, comprenant : (A) un copolymère qui comprend des unités structurales maléimide représentées par la formule (1), des unités structurales vinyl éther représentées par la formule (2) et au moins une sorte d'unités structurales représentées par la formule (3), (4) ou (5) ; (B) un photosensibilisateur ; et (C) un agent réticulant. Dans les formules, X représente un groupe hydrocarboné en C1-20 qui peut avoir soit une liaison éther soit une structure cyclique ; Y représente un groupe organique facultativement substitué ; et Z représente un groupe hydrocarboné aromatique facultativement substitué ou un groupe alcoxy.
(JA)【課題】マイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物を提供すること。 【解決手段】 (A)成分、(B)成分、(C)成分及び溶剤を含有するマイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物。 (A)成分:下記式(1)で表されるマレイミド構造単位、下記式(2)で表されるビニルエーテル構造単位、並びに下記式(3)、式(4)及び式(5)で表される構造単位3種のうち少なくとも1種を有する共重合体 (B)成分:感光剤 (C)成分:架橋剤 (式中、Xはエーテル結合又は環状構造を有してもよい炭素原子数1乃至20の炭化水素基を表し、Yは置換基を有してもよい有機基を表し、Zは置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、又はアルコキシ基を表す。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)