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1. (WO2012105205) SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC RECORDING MEDIUM FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/105205    International Application No.:    PCT/JP2012/000533
Publication Date: 09.08.2012 International Filing Date: 27.01.2012
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), B22F 3/14 (2006.01), C22C 1/05 (2006.01), C22C 5/02 (2006.01), C22C 5/04 (2006.01), C22C 30/02 (2006.01), C22C 33/02 (2006.01), C22C 38/00 (2006.01), G11B 5/851 (2006.01)
Applicants: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117 (JP) (For All Designated States Except US).
ISHIYAMA, Kouichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NONAKA, Sohei [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YOSUKE, Masanori [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MATSUZAKI, Hideharu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: ISHIYAMA, Kouichi; (JP).
NONAKA, Sohei; (JP).
YOSUKE, Masanori; (JP).
MATSUZAKI, Hideharu; (JP)
Agent: TAKAOKA, Ryoichi; Takaoka IP Law Office, Ikebukuro Tosei Building, 5th Floor, 5-4-7, Nishi-Ikebukuro, Toshima-ku, Tokyo 1710021 (JP)
Priority Data:
2011-019179 31.01.2011 JP
2012-012628 25.01.2012 JP
Title (EN) SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC RECORDING MEDIUM FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE POUR FORMER UN FILM DE SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are: a sputtering target that is for forming a magnetic recording medium film, is able to form a film having a low ordering temperature, and can suppress the generation of particles; and a method for producing the sputtering target. The sputtering target for forming a magnetic recording medium film comprises a sintered body having a composition represented by the general formula {(FexPt100-x)(100-y)Ay}(100-z)Cz, A being a metal comprising Au and/or Cu, and by atomic ratio, 30 ≤ x ≤ 80, 1 ≤ y ≤ 30, and 3 ≤ z ≤ 63. Also, the method for producing the sputtering target has a step for hot pressing a mixed powder of an AuPt alloy powder and/or a CuPt alloy powder, an AgPt alloy powder, an FePt alloy powder, Pt powder, and graphite powder or carbon black powder in a vacuum or in an inert gas atmosphere.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique qui permet de former un film de support d'enregistrement magnétique ayant une faible température d'ordonnancement et qui permet de supprimer la formation de particules ; un procédé de fabrication de la cible de pulvérisation cathodique. La cible de pulvérisation cathodique qui permet de former un film de support d'enregistrement magnétique comporte un corps fritté ayant une composition représentée par la formule générale {(FexPt100-x)(100-y)Ay}(100-z)Cz, A représentant un métal comportant Au et/ou Cu, et, en termes de rapport atomique, 30 ≤ x ≤ 80, 1 ≤ y ≤ 30 et 3 ≤ z ≤ 63. De plus, le procédé de fabrication de la cible de pulvérisation cathodique comprend une étape de compression à chaud d'une poudre mélangée, constituée d'une poudre d'alliage d'AuPt et/ou d'une poudre d'alliage de CuPt, d'une poudre d'alliage d'AgPt, d'une poudre d'alliage de FePt, de poudre de Pt et de poudre de graphite ou de poudre de noir de carbone dans une atmosphère de vide ou de gaz inerte.
(JA)規則化温度の低い膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、一般式:{(FePt100-x(100-y)(100-z)、ここでAがAuおよびCuの少なくとも一方からなる金属であり、原子比により30≦x≦80、1≦y≦30、3≦z≦63で表される組成を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、AuPt合金粉およびCuPt合金粉の少なくとも一方と、AgPt合金粉と、FePt合金粉と、Pt粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)