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1. (WO2012105191) PLASMA DISPLAY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/105191    International Application No.:    PCT/JP2012/000479
Publication Date: 09.08.2012 International Filing Date: 26.01.2012
IPC:
G09G 3/20 (2006.01), G09G 3/288 (2013.01), G09G 3/291 (2013.01), G09G 3/292 (2013.01), G09G 3/298 (2013.01), H01J 11/12 (2012.01), H01J 11/22 (2012.01), H01J 11/24 (2012.01), H01J 11/26 (2012.01), H01J 11/34 (2012.01), H01J 11/36 (2012.01), H01J 11/40 (2012.01)
Applicants: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (For All Designated States Except US).
MIZOKAMI, Kaname; (For US Only).
SAKAMOTO, Koyo; (For US Only).
YOSHIHAMA, Yutaka; (For US Only).
OGAWA, Kenji; (For US Only)
Inventors: MIZOKAMI, Kaname; .
SAKAMOTO, Koyo; .
YOSHIHAMA, Yutaka; .
OGAWA, Kenji;
Agent: NAITO, Hiroki; c/o Panasonic Corporation, 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP)
Priority Data:
2011-017546 31.01.2011 JP
Title (EN) PLASMA DISPLAY
(FR) SYSTÈME D'ÉCRAN À PLASMA
(JA) プラズマディスプレイ装置
Abstract: front page image
(EN)A plasma display is provided with a drive circuit and a plasma display panel having multiple discharge cells. A protective layer of the plasma display panel is provided with a base layer and a metal oxide formed on the base layer. The metal oxide comprises pulverized coarse metal oxide particles, and the metal oxide and the coarse metal oxide particles have a photoluminescence peak in the wavelength range of 200nm to 300nm, and the peak of the metal oxide is 60% or greater but less than 100% the intensity of the peak of the coarse metal oxide particles. In an initialization period in a special initialization subfield, the drive circuit applies to each of multiple scan electrodes either a forced initialization waveform or a non-initialization waveform. In an initialization period in a selective initialization subfield, the drive circuit applies to each of the aforementioned multiple scan electrodes a selective initialization waveform. In the special initialization subfield in which a forced initialization waveform is applied and in the following special initialization subfield, the drive circuit applies a non-initialization waveform to the scan electrode adjacent to the scan electrode to which a forced initialization waveform is applied. Further, the drive circuit applies to the scan electrodes a forced initialization waveform only once in a field group.
(FR)L'invention concerne un système d'écran à plasma comportant un circuit de commande et un écran à plasma présentant plusieurs cellules de décharge. Une couche protectrice de l'écran à plasma comporte une couche de base et un oxyde métallique formé sur la couche de base. L'oxyde métallique comprend les particules grossières pulvérisées d'oxyde métallique, et l'oxyde métallique et les particules grossières d'oxyde métallique présentent un pic de photoluminescence dans la plage de longueurs d'onde comprise entre 200nm to 300nm, et le pic de l'oxyde métallique est supérieur ou égal à 60 % mais inférieur à 100 % de l'intensité du pic des particules grossières d'oxyde métallique. Pendant la période d'initialisation dans un sous-champ d'initialisation spéciale, le circuit de commande applique à chacune des électrodes de balayage soit une forme d'onde d'initialisation forcée, soit une forme d'onde de non initialisation. Pendant une période d'initialisation dans un sous-champ d'initialisation sélective, le circuit de commande applique à chacune des électrodes de balayage susmentionnées une forme d'onde d'initialisation sélective. Dans le sous-champ d'initiation spéciale dans lequel une forme d'onde d'initialisation forcée est appliquée et dans le sous-champ d'initialisation spéciale suivant, le circuit de commande applique une forme d'onde de non initialisation à l'électrode de balayage adjacente à l'électrode de balayage à laquelle est appliquée une forme d'onde d'initialisation forcée. En outre, le circuit de commande applique aux électrodes de balayage une forme d'onde d'initialisation forcée une seule fois dans un groupe de champs.
(JA)プラズマディスプレイ装置は、複数の放電セルを有するプラズマディスプレイパネルと、駆動回路とを備える。プラズマディスプレイパネルが有する保護層は、下地層と下地層の上に形成された金属酸化物とを備える。金属酸化物は、金属酸化物粗粒子が粉砕されたものであり、金属酸化物と金属酸化物粗粒子とは、波長200nmから300nmの範囲にフォトルミネッセンスのピークがあり、金属酸化物のピークは、金属酸化物粗粒子のピークの60%以上、100%未満の強度である。駆動回路は、特別初期化サブフィールドにおける初期化期間では、強制初期化波形または非初期化波形のいずれかを前記複数の走査電極のそれぞれに印加する。選択初期化サブフィールドにおける初期化期間では、選択初期化波形を複数の走査電極に印加する。強制初期化波形を印加する走査電極に隣接する走査電極には、強制初期化波形を印加した特別初期化サブフィールドおよびその次の特別初期化サブフィールドにおいて非初期化波形を印加する。さらに、駆動回路は、フィールド群において一回だけ強制初期化波形を走査電極に印加する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)