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1. (WO2012102498) PHOTOCURING RESIN COMPOSITION FOR IMPRINT LITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/102498    International Application No.:    PCT/KR2012/000230
Publication Date: 02.08.2012 International Filing Date: 10.01.2012
IPC:
C08L 83/04 (2006.01), C08K 5/54 (2006.01), C08G 77/04 (2006.01), B29C 33/38 (2006.01), B29C 33/42 (2006.01)
Applicants: DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. [KR/KR]; 472-2, Gajwa-Dong Seo-Gu Incheon 404-205 (KR) (For All Designated States Except US).
YOO, Jae-Won [KR/KR]; (KR) (For US Only).
KIM, Byung-Uk [KR/KR]; (KR) (For US Only).
KIM, Doo-Shik [KR/KR]; (KR) (For US Only).
HAN, Tae-Hwan [KR/KR]; (KR) (For US Only).
NAM, Dong-Jin [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: YOO, Jae-Won; (KR).
KIM, Byung-Uk; (KR).
KIM, Doo-Shik; (KR).
HAN, Tae-Hwan; (KR).
NAM, Dong-Jin; (KR)
Agent: WON, Young-ho; (#502 Namdo Bldg., Yeoksam-dong) 6, Teheran-ro 14-gil Gangnam-gu Seoul 135-080 (KR)
Priority Data:
10-2011-0007260 25.01.2011 KR
Title (EN) PHOTOCURING RESIN COMPOSITION FOR IMPRINT LITHOGRAPHY
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE POUVANT DURCIR PAR EFFET PHOTOCHIMIQUE DESTINÉE À UNE LITHOGRAPHIE D'IMPRESSION
(KO) 임프린트 리소그래피용 광경화형 수지 조성물
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a photocuring resin composition for imprint lithography, wherein the photocuring resin composition has outstanding wettability with respect to thermocuring or photocuring resins for pattern formation in addition to organic solvents, and, more particularly, not only has outstanding mould-release properties with respect to thermocuring or photocuring resins for pattern formation but also has outstanding chemical resistance and makes it possible to achieve relatively rapid and stable production of the micropatterns which are needed when making various electronic devices including semiconductors and displays.
(FR)La présente invention se rapporte à une composition de résine pouvant durcir par effet photochimique destinée à une lithographie d'impression, la composition de résine pouvant durcir par effet photochimique présentant une mouillabilité exceptionnelle par rapport à des résines pouvant durcir par effet thermique ou à des résines pouvant durcir par effet photochimique pour une formation de motifs en plus de solvants organiques et, plus particulièrement, elle présente non seulement des propriétés exceptionnelles de dégagement d'un moule par rapport à des résines pouvant durcir par effet thermique ou à des résines pouvant durcir par effet photochimique pour une formation de motif, mais elle présente également une résistance chimique exceptionnelle et permet de réaliser une production stable et relativement rapide de micromotifs qui sont nécessaires à la réalisation de divers dispositifs électroniques y compris des semi-conducteurs et des affichages.
(KO)본 발명은 임프린트 리소그래피용 광경화형 수지 조성물에 관한 것으로, 상기 광경화형 수지 조성물은 유기용매 뿐만 아니라 패턴형성을 위한 열경화 또는 광경화 수지에 대해 젖음성이 우수하며, 특히 패턴형성을 위한 열경화 또는 광경화 수지에 대한 이형성이 우수할 뿐만 아니라 내화학성이 우수하여 반도체, 디스플레이 등을 포함하는 각종 전자 디바이스 제조에 필요한 미세패턴을 보다 빠르고 안정적으로 제작할 수 있다.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Korean (KO)
Filing Language: Korean (KO)