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1. (WO2012102293) RESIN PARTICLES CONTAINING ORGANIC UV ABSORBER, METHOD FOR MANUFACTURING SAID PARTICLES, LIQUID DISPERSION OF SUCH PARTICLES, AQUEOUS DISPERSION, OIL DISPERSION, AND COSMETIC
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/102293    International Application No.:    PCT/JP2012/051509
Publication Date: 02.08.2012 International Filing Date: 25.01.2012
IPC:
C08L 101/00 (2006.01), C08K 5/00 (2006.01), C08F 2/44 (2006.01), A61Q 17/04 (2006.01), A61K 8/35 (2006.01), A61K 8/37 (2006.01), A61K 8/81 (2006.01), C09K 3/00 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 6-28, Rokuban-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 1028465 (JP) (For All Designated States Except US).
MATSUSHITA Hirokazu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MATSUSHITA Hirokazu; (JP)
Agent: SHIGA Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
Priority Data:
2011-012860 25.01.2011 JP
Title (EN) RESIN PARTICLES CONTAINING ORGANIC UV ABSORBER, METHOD FOR MANUFACTURING SAID PARTICLES, LIQUID DISPERSION OF SUCH PARTICLES, AQUEOUS DISPERSION, OIL DISPERSION, AND COSMETIC
(FR) PARTICULES DE RÉSINE CONTENANT UN ABSORBANT UV ORGANIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DESDITES PARTICULES, DISPERSION LIQUIDE DE CES PARTICULES, DISPERSION AQUEUSE, DISPERSION HUILEUSE ET PRODUIT COSMÉTIQUE
(JA) 有機系紫外線吸収剤含有樹脂粒子とその製造方法及び有機系紫外線吸収剤含有樹脂粒子分散液及び水系分散体及び油系分散体並びに化粧料
Abstract: front page image
(EN)These organic-UV-absorber-containing resin particles contain an organic UV absorber and a phosphate ester surfactant in a resin. The mean size of said particles is between 0.05 and 1 µm, inclusive, and the organic UV absorber constitutes 0.1% to 80% of the mass of said particles. When said particles are used in a cosmetic, the dispersion of the organic UV absorber throughout the resin results in a cosmetic that exhibits a high degree of UV protection and is safe and easier on skin. Furthermore, since the organic UV absorber does not need to be dissolved in a specific solvent, these particles can also be used in a water-based cosmetic, increasing the degree of freedom in cosmetic formulation.
(FR)La présente invention concerne des particules de résine contenant un absorbant UV organique et un tensioactif de type ester de phosphate dans une résine. La taille principale desdites particules se situe entre 0,05 µm et 1 µm inclus et l'absorbant UV organique constitue 0,1 % à 80 % de la masse desdites particules. Quand lesdites particules sont utilisées dans un produit cosmétique, la dispersion de l'absorbant UV organique dans toute la résine donne un produit cosmétique présentant un degré élevé de protection contre les UV, qui est sans risque pour la peau. En outre, comme l'absorbant UV organique n'a pas besoin d'être dissous dans un solvant spécifique, ces particules peuvent également être utilisées dans un produit cosmétique aqueux, ce qui facilite la préparation d'une formule cosmétique.
(JA) 本発明の有機系紫外線吸収剤含有樹脂粒子は、樹脂に、有機系紫外線吸収剤と、リン酸エステル型界面活性剤と、を含有し、この有機系紫外線吸収剤含有樹脂粒子の平均粒子径は0.05μm以上かつ1μm以下であり、かつ有機系紫外線吸収剤の含有率は0.1質量%以上かつ80質量%以下である。この有機系紫外線吸収剤含有樹脂粒子によれば、化粧料に用いた場合に、有機系紫外線吸収剤が樹脂中に分散されることで、紫外線防御効果が高く、皮膚への接触負担を軽減することができ、安全に使用することができる。また、有機系紫外線吸収剤を特定の溶媒に溶かす必要が無く、水系の化粧料へも適用することができ、化粧料としての処方の自由度を向上させることができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)