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1. (WO2012102131) ELASTIC WAVE ELEMENT AND ELASTIC WAVE APPARATUS USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/102131    International Application No.:    PCT/JP2012/050821
Publication Date: 02.08.2012 International Filing Date: 17.01.2012
IPC:
H03H 9/145 (2006.01)
Applicants: KYOCERA Corporation [JP/JP]; 6, Takeda Tobadono-cho, Fushimi-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6128501 (JP) (For All Designated States Except US).
IKUTA, Takanori [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TANAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: IKUTA, Takanori; (JP).
TANAKA, Hiroyuki; (JP)
Agent: SATOH, Takahisa; Sohshin International Patent Office, Choyu Landic Building 8F, 1-11, Shinbashi 3-chome, Minato-ku, TOKYO 1050004 (JP)
Priority Data:
2011-015649 27.01.2011 JP
Title (EN) ELASTIC WAVE ELEMENT AND ELASTIC WAVE APPARATUS USING SAME
(FR) ÉLÉMENT À ONDES ÉLASTIQUES ET APPAREIL À ONDES ÉLASTIQUES FAISANT APPEL À CELUI-CI
(JA) 弾性波素子およびそれを用いた弾性波装置
Abstract: front page image
(EN)A SAW element (1) comprises a substrate (3), electrode fingers (13b) arranged on an upper face (3a) of the substrate (3), and mass-adding films (9) arranged on the upper faces of the electrode fingers (13b). When viewing cross sections of the mass adding films (9) in a direction interesting at right angles with the direction in which the electrode fingers (13b) extend, the width of the cross sections is made to become the narrowest at the upper side thereof. By arranging mass adding films (9) formed to be such a shape on the upper faces of the electrode fingers (13b), the electromechanical coupling factor of the SAW element (1) can be increased.
(FR)Un élément SAW (1) comprend un substrat (3), des doigts d'électrode (13b) agencés sur une face supérieure (3a) du substrat (3), et des films d'ajout de masse (9) agencés sur les faces supérieures des doigts d'électrode (13b). Quand on regarde les sections transversales des films d'ajout de masse (9) dans une direction qui coupe à angle droit la direction dans laquelle s'étendent les doigts d'électrode (13b), la largeur des sections transversales devient la plus étroite sur le côté supérieur de celles-ci. En agençant les films d'ajout de masse (9) qui sont formés de façon à présenter une telle forme sur les faces supérieures des doigts d'électrode (13b), il est possible d'accroître le facteur de couplage électromécanique de l'élément SAW (1).
(JA) SAW素子1は、基板3と、基板3の上面3aに配置された電極指13bと、電極指13bの上面に配置された質量付加膜9とを有する。質量付加膜9は、電極指13bが伸びている方向に直交する方向における断面を見たときに、該断面における幅が上辺で最も小さくなっている。このような形状からなる質量付加膜9を電極指13bの上面に配置したことによって、電気機械結合係数を高くすることができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)