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1. (WO2012101516) TAPERED TRIBLOCK COPOLYMERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/101516    International Application No.:    PCT/IB2012/000244
Publication Date: 02.08.2012 International Filing Date: 30.01.2012
IPC:
C08F 236/10 (2006.01)
Applicants: DYNASOL ELASTÓMEROS, S.A.DE C.V. [MX/MX]; Carretera Tampico-mante Km. 28.5 Col. Santa Amalia Altamira, Tamaulipas 89602 (MX) (For All Designated States Except US).
MOCTEZUMA ESPIRICUETO, Sergio Alberto [MX/MX]; (MX) (For US Only).
MONTERO CAMERERO, Enrique Maria [ES/ES]; (ES) (For US Only).
HERNANDEZ ZAMORA, Gabriel [MX/MX]; (MX) (For US Only).
ESQUIVEL DE LA GARZA, Alejandro Claudio [MX/MX]; (MX) (For US Only).
MENDIETA GARCÍA, Martha Belem [MX/MX]; (MX) (For US Only).
BLANCO REYES, Gabriela Elizabeth [MX/MX]; (MX) (For US Only)
Inventors: MOCTEZUMA ESPIRICUETO, Sergio Alberto; (MX).
MONTERO CAMERERO, Enrique Maria; (ES).
HERNANDEZ ZAMORA, Gabriel; (MX).
ESQUIVEL DE LA GARZA, Alejandro Claudio; (MX).
MENDIETA GARCÍA, Martha Belem; (MX).
BLANCO REYES, Gabriela Elizabeth; (MX)
Priority Data:
61/437,671 30.01.2011 US
Title (EN) TAPERED TRIBLOCK COPOLYMERS
(FR) COPOLYMÈRES TRIBLOCS À GRADIENT
Abstract: front page image
(EN)A tapered triblock copolymer having controlled vinyl distribution, enlarged middle block with intermediate composition and microstructure, increased compatibility between its adjacent blocks, good processing characteristics and a peak average molecular weight between 25,000 and 300,000 is made by anionically polymerizing conjugated diene and monovinyl aromatic monomers, polar modifier and initiator to make a first block rich in conjugated diene, forming a second block that is a copolymer of the conjugated diene and the monovinyl aromatic monomer and which is less rich in the conjugated diene than the first block, and forming a third block that is a homopolymer of the monovinyl aromatic monomer. The first, second and third blocks comprise 30 to 60, 20 to 50wt % and 10 to 40 wt % of the tapered triblock copolymer, respectively. The tapered triblock copolymers may be used as asphalt modifiers, adhesives, sealants, compatibilizers, reinforcing agents and impact modifiers.
(FR)La présente invention concerne un copolymère tribloc à gradient présentant une distribution contrôlée des groupes vinyle, un bloc central plus grand avec une microstructure et une composition intermédiaire, une compatibilité accrue entre ses blocs adjacents, de bonnes caractéristiques de mise en œuvre et un pic de masse moléculaire moyenne se situant entre 25 000 et 300 000. Ce copolymère est formé par polymérisation anionique de monomères aromatiques monovinyliques et d'un diène conjugué, d'un modificateur polaire et d'un initiateur en vue de l'obtention d'un premier bloc riche en diène conjugué, par formation d'un deuxième bloc qui est un copolymère du diène conjugué et du monomère aromatique monovinylique et qui est moins riche en diène conjugué que le premier bloc, et par formation d'un troisième bloc qui est un homopolymère du monomère aromatique monovinylique. Les premier, deuxième et troisième blocs constituent respectivement de 30 à 60, de 20 à 50 et de 10 à 40 % en poids du copolymère tribloc à gradient. Lesdits copolymères triblocs à gradient peuvent être utilisés en tant qu'adjuvants pour l'asphalte, adhésifs, produits d'étanchéité, agents de compatibilité, agents renforçants et agents antichocs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)