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1. (WO2012101080) OPTICAL ARRANGEMENT FOR AN EUV PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR COOLING AN OPTICAL COMPONENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/101080    International Application No.:    PCT/EP2012/050946
Publication Date: 02.08.2012 International Filing Date: 23.01.2012
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
ANDERL, Willi [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KIEREY, Holger [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BAUER, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WALDIS, Severin [CH/CH]; (CH) (For US Only).
MAJOR, András G. [HU/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: ANDERL, Willi; (DE).
KIEREY, Holger; (DE).
BAUER, Markus; (DE).
WALDIS, Severin; (CH).
MAJOR, András G.; (DE)
Agent: WITTE, WELLER & PARTNER; Zusammenschluss EPA Nr. 314 Postfach 10 54 62 70047 Stuttgart (DE)
Priority Data:
10 2011 010 462.3 28.01.2011 DE
61/437,044 28.01.2011 US
Title (EN) OPTICAL ARRANGEMENT FOR AN EUV PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR COOLING AN OPTICAL COMPONENT
(FR) AGENCEMENT OPTIQUE POUR UN APPAREIL D'EXPOSITION À PROJECTION D'UV EXTRÊMES ET PROCÉDÉ DE REFROIDISSEMENT D'UN COMPOSANT OPTIQUE
Abstract: front page image
(EN)An optical arrangement (80) for an EUV projection exposure apparatus comprises an optical component (82), which has a substrate (84) and a surface (86) on a side of the substrate (84) which surface is optically operative in the EUV spectral range, and a cooling device (90) for the optical component (82), said cooling device having a cooling medium (94). The substrate (84) comprises a material having at a temperature Ts << 0°C a thermal conductivity of > 50 W-1K-1 and a coefficient of thermal expansion of < 3 * 10-6 K-1, and the cooling medium (94) has a temperature of << 0°C in order to cool the substrate (84) to the temperature Ts.
(FR)La présente invention concerne un agencement optique (80) pour un appareil d'exposition à projection d'UV extrêmes qui comprend un composant optique (82), qui présente un substrat (84) et une surface (86) sur un côté du substrat (84), laquelle surface est optiquement opérationnelle dans l'intervalle spectral des UV extrêmes, et un dispositif de refroidissement (90) pour le composant optique (82), ledit dispositif de refroidissement possédant un milieu de refroidissement (94). Le substrat (84) comprend un matériau dont la conductivité thermique à une température Ts << 0 °C est supérieure à 50 W-1K-1 et dont le coefficient d'expansion thermique est inférieur à 3 * 10-6 K-1, et le milieu de refroidissement (94) possède une température << 0 °C dans le but de refroidir le substrat (84) à la température Ts.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)