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1. (WO2012099635) ELECTRON BEAM PROCESSING WITH CONDENSED ICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/099635    International Application No.:    PCT/US2011/057805
Publication Date: 26.07.2012 International Filing Date: 26.10.2011
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: PRESIDENT AND FELLOWS OF HARVARD COLLEGE [US/US]; 17 Quincy Street Cambridge, MA 02138 (US) (For All Designated States Except US).
BRANTON, Daniel [US/US]; (US) (For US Only).
HAN, Anpan [DK/US]; (US) (For US Only).
GOLOVCHENKO, Jene, A. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BRANTON, Daniel; (US).
HAN, Anpan; (US).
GOLOVCHENKO, Jene, A.; (US)
Agent: LOBER, Theresa, A.; T. A. Lober Patent Services 60 Thoreau Street, #215 Concord, MA 01742 (US)
Priority Data:
61/407,508 28.10.2010 US
Title (EN) ELECTRON BEAM PROCESSING WITH CONDENSED ICE
(FR) TRAITEMENT PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS À L'AIDE DE GLACE CONDENSÉE
Abstract: front page image
(EN)In a method for imaging a solid state substrate, a vapor is condensed to an amorphous solid water condensate layer on a surface of a solid state substrate. Then an image of at least a portion of the substrate surface is produced by scanning an electron beam along the substrate surface through the water condensate layer. The water condensate layer integrity is maintained during electron beam scanning to prevent electron-beam contamination from reaching the substrate during electron beam scanning. Then one or more regions of the layer can be locally removed by directing an electron beam at the regions. A material layer can be deposited on top of the water condensate layer and any substrate surface exposed at the one or more regions, and the water condensate layer and regions of the material layer on top of the layer can be removed, leaving a patterned material layer on the substrate.
(FR)L'invention concerne un procédé d'imagerie d'un substrat à l'état solide, comportant une étape consistant à condenser une vapeur pour donner une couche de condensat amorphe constituée d'eau solide sur la surface d'un substrat à l'état solide. Une image d'au moins une partie de la surface du substrat est ensuite produite en balayant la surface du substrat au moyen d'un faisceau d'électrons à travers la couche de condensat d'eau. L'intégrité de la couche de condensat d'eau est maintenue au cours du balayage par le faisceau d'électrons pour empêcher la contamination par le faisceau d'électrons d'atteindre le substrat au cours du balayage par le faisceau d'électrons. Ensuite, une ou plusieurs régions de la couche peuvent être éliminées localement en dirigeant un faisceau d'électrons vers les régions en question. Une couche de matériau peut être déposée par-dessus la couche de condensat d'eau et une surface quelconque du substrat peut être exposée dans la ou les régions en question, puis la couche de condensat d'eau et les régions de la couche de matériau situées sur la couche peuvent être éliminées, laissant une couche de matériau formant des motifs sur le substrat.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)