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1. (WO2012099185) PROCESS FOR PRODUCING POROUS SILICA PARTICLES, RESIN COMPOSITION FOR ANTIREFLECTION COATINGS, ARTICLE WITH ANTIREFLECTION COATING, AND ANTIREFLECTION FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/099185    International Application No.:    PCT/JP2012/051030
Publication Date: 26.07.2012 International Filing Date: 19.01.2012
IPC:
C01B 33/18 (2006.01)
Applicants: DIC Corporation [JP/JP]; 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520 (JP) (For All Designated States Except US).
TOKORO Hiroki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMASHINA Youzou [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAKANO Kiyofumi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHIMOGAKI Tomoyo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TABUCHI Minoru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
DEGUCHI Tomoe [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TOKORO Hiroki; (JP).
YAMASHINA Youzou; (JP).
TAKANO Kiyofumi; (JP).
SHIMOGAKI Tomoyo; (JP).
TABUCHI Minoru; (JP).
DEGUCHI Tomoe; (JP)
Agent: KONO Michihiro; c/o DIC Corporation, 7-20, Nihonbashi 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038233 (JP)
Priority Data:
2011-010877 21.01.2011 JP
Title (EN) PROCESS FOR PRODUCING POROUS SILICA PARTICLES, RESIN COMPOSITION FOR ANTIREFLECTION COATINGS, ARTICLE WITH ANTIREFLECTION COATING, AND ANTIREFLECTION FILM
(FR) PROCÉDÉ POUR PRODUIRE DES PARTICULES DE SILICE POREUSE, COMPOSITION DE RÉSINE POUR REVÊTEMENTS ANTIRÉFLÉCHISSANTS, ARTICLE AVEC REVÊTEMENT ANTIRÉFLÉCHISSANT, ET FILM ANTIRÉFLÉCHISSANT
(JA) 多孔質シリカ粒子の製造方法、反射防止膜用樹脂組成物、反射防止膜を有する物品及び反射防止フィルム
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a process for producing porous silica particles which enables reduction in the particle diameter and which attains, in the production, a high yield relative to the volume of a reaction solution. A process for producing porous silica particles which have pores on the surface is provided in order to achieve the purpose. This process is characterized by including: a step of adding a mixed fluid (A) which comprises a tetraalkoxysilane, an alkylamine and an alcohol to a mixed fluid (B) which comprises ammonia, an alcohol and water to conduct the hydrolysis and condensation of the tetraalkoxysilane and thus obtain silica particles; and a step of removing the alkylamine from the silica particles.
(FR)L'objet de la présente invention est de concevoir un procédé pour produire des particules de silice poreuse qui permet la réduction du diamètre de particule et qui atteint, en production, un rendement élevé par rapport au volume d'une solution de réaction. La présente invention concerne un procédé pour produire des particules de silice poreuse qui ont des pores sur la surface permettant de réaliser l'objectif. Ce procédé est caractérisé en ce qu'il comprend : une étape d'ajout d'un fluide mixte (A) qui comprend un tétraalcoxysilane, une alkylamine et un alcool à un fluide mixte (B) qui comprend de l'ammoniaque, un alcool et de l'eau pour réaliser l'hydrolyse et la condensation du tétraalcoxysilane et obtenir ainsi des particules de silice ; et une étape d'élimination de l'alkylamine à partir des particules de silice.
(JA) 本発明は、粒子径が小さく、また製造において反応溶液の容量に対する収量が多い多孔質シリカ粒子の製造方法を提供することを目的とし、この目的を達成すべくテトラアルコキシシラン、アルキルアミン及びアルコールを含む混合液(A液)を、アンモニア、アルコール及び水を含む混合液(B液)に加え、テトラアルコキシシランの加水分解及び縮合反応を行い、シリカ粒子を得る工程と、該シリカ粒子からアルキルアミンを除去する工程とを含むことを特徴とする表面に細孔を有する多孔質シリカ粒子の製造方法を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)