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1. (WO2012099126) ULTRASONIC CLEANING METHOD AND APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/099126    International Application No.:    PCT/JP2012/050868
Publication Date: 26.07.2012 International Filing Date: 17.01.2012
IPC:
B08B 3/08 (2006.01), B08B 3/12 (2006.01)
Applicants: DENKI KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1-1,Nihonbashi-Muromachi 2-chome,Chuo-ku, Tokyo 1038338 (JP) (For All Designated States Except US).
EDA, Yukio [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IBAYASHI, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KURIMURA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: EDA, Yukio; (JP).
IBAYASHI, Toshiyuki; (JP).
KURIMURA, Hiroyuki; (JP)
Agent: AXIS Patent International; Yushi Kogyo Kaikan,13-11,Nihonbashi 3-chome,Chuo-ku, Tokyo 1030027 (JP)
Priority Data:
2011-007986 18.01.2011 JP
Title (EN) ULTRASONIC CLEANING METHOD AND APPARATUS
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE ULTRASONIQUE
(JA) 超音波洗浄方法及び装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is an ultrasonic cleaning method that can reliably clean and eliminate even when adhesive components adhere to a rigid substrate. The ultrasonic cleaning method carries out steps in (1) - (5) in that order. (1) Step for immersing the rigid substrate with adhesive adhering to the surface in an aromatic alcohol-based cleaning solution at 25 - 60°C; (2) step for cleaning the adhesive from the surface of the rigid substrate by the oscillation of ultrasonic waves while the rigid substrate is kept in the immersed state according to step (1); (3) step for, next, immersing the rigid substrate in a glycol ether-based cleaning solution at 25 - 60°C; (4) step for rinsing the aromatic alcohol-based cleaning solution adhering to the rigid substrate by the oscillation of ultrasonic waves while keeping the rigid substrate in the immersed state according to step (3); and (5) step for, next, rinsing and removing the glycol ether-based cleaning solution and aromatic alcohol-based cleaning solution adhering to the rigid substrate with water.
(FR)La présente invention concerne un procédé de nettoyage ultrasonique permettant de nettoyer et d'éliminer des éléments adhésifs de manière fiable même lorsque ceux-ci adhèrent à un substrat rigide. Le procédé de nettoyage ultrasonique exécute les étapes (1) à (5) dans cet ordre : (1) étape d'immersion du substrat rigide avec un adhésif adhérant à la surface dans une solution de nettoyage à base d'alcool aromatique à 25 - 60°C; (2) étape de nettoyage de l'adhésif de la surface du substrat rigide par oscillation d'ondes ultrasoniques alors que le substrat rigide est maintenu dans l'état immergé selon l'étape (1); (3) étape d'immersion du substrat rigide dans une solution de nettoyage à base d'éther glycol à 25 - 60°C; (4) étape de rinçage de la solution de nettoyage à base d'alcool aromatique adhérant au substrat rigide par oscillation d'ondes ultrasoniques tout en maintenant le substrat rigide dans l'état immergé selon l'étape (3); puis (5) étape de rinçage et de retrait de la solution de nettoyage à base d'éther glycol et de la solution de nettoyage à base d'alcool aromatique adhérant au substrat rigide à l'aide d'eau.
(JA) 接着剤成分が硬質基板上に付着する場合であっても、確実に洗浄除去することができる超音波洗浄方法を提供する。下記(1)~(5)の工程を順に行う超音波洗浄方法。(1)接着剤が表面に付着した硬質基板を、25~60℃の芳香族アルコール系洗浄液に浸漬させる工程、(2)工程(1)により硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上の接着剤を洗浄する工程、(3)次いで、硬質基板を、25~60℃のグリコールエーテル系洗浄液に浸漬させる工程、(4)工程(3)により硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上に付着した前記芳香族アルコール系洗浄液をすすぐ工程、(5)次いで、硬質基板上に付着した前記グリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液を水によりすすぎ落とす工程。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)