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Pub. No.:    WO/2012/098615    International Application No.:    PCT/JP2011/006837
Publication Date: 26.07.2012 International Filing Date: 07.12.2011
G01N 21/956 (2006.01), G01N 23/225 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishishimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (For All Designated States Except US).
HARADA, Minoru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKAGAKI, Ryo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HIRAI, Takehiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HARADA, Minoru; (JP).
HIRAI, Takehiro; (JP)
Agent: INOUE, Manabu; c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Priority Data:
2011-008387 19.01.2011 JP
(JA) 画像分類方法および画像分類装置
Abstract: front page image
(EN)In an apparatus for automatically classifying an image taken of a defect on a semiconductor wafer according to user defined class, when images taken by a plurality of different observation apparatuses are input in a mixed manner, the defect image classification accuracy rate decreases due to image property differences corresponding to differences in the observation apparatuses. Provided is an automatic image classification apparatus supplied with defect images taken by a plurality of observation apparatuses, in which, when preparing a recipe, image process parameters are adjusted and a class identification plane is prepared for each observation apparatus. When classifying an image, the observation apparatus that took a defect image is identified on the basis of accompanying information or the like of the image, and an image process and a classification process are performed by using the image process parameters and the class identification plane corresponding to the observation apparatus that took the image. In order to efficiently adjust the image process parameters for each observation apparatus, appropriate image process parameters are automatically adjusted on the basis of a taught defect area. The image process parameters adjusted in a given observation apparatus may be used for setting the image process parameters for another observation apparatus.
(FR)Dans un appareil de classification automatique d'une image prise d'un défaut sur une tranche de semi-conducteur conformément à une classe définie par l'utilisateur, lorsque des images prises par une pluralité d'appareils d'observation différents sont appliquées en entrée d'une manière mélangée, le taux de précision de classification d'image de défaut décroît en raison de différences de propriétés d'image correspondant à des différences entre les appareils d'observation. L'invention porte sur un appareil de classification automatique d'image alimenté en images de défaut prises par une pluralité d'appareils d'observation, dans lequel, lors de la préparation d'une recette, des paramètres de traitement d'image sont ajustés et un plan d'identification de classe est préparé pour chaque appareil d'observation. Lors de la classification d'une image, l'appareil d'observation qui a pris une image de défaut est identifié sur la base d'informations accompagnatrices ou analogues de l'image, et un traitement d'image et un traitement de classification sont effectués par utilisation des paramètres de traitement d'image et du plan d'identification de classe correspondant à l'appareil d'observation ayant pris l'image. De manière à ajuster efficacement les paramètres de traitement d'image pour chaque appareil d'observation, des paramètres de traitement d'image appropriés sont automatiquement ajustés sur la base d'une zone de défaut apprise. Les paramètres de traitement d'image ajustés dans un appareil d'observation donné peuvent être utilisés pour régler les paramètres de traitement d'image pour un autre appareil d'observation.
(JA)半導体ウェハ上の欠陥を撮像した画像を,ユーザが定義したクラスごとに自動で分類する装置において,異なる複数の観察装置で撮像した画像が混在して入力された場合,観察装置の違いによる画像の性質の差により,欠陥画像の分類正解率が低下する。 複数の観察装置で撮像した欠陥画像が入力となる画像自動分類装置において,レシピを作成する際に観察装置ごとに画像処理パラメータの調整と分類識別面の作成を行い,画像の分類時には,欠陥画像を撮像した観察装置を画像の付帯情報などをもとに特定し,画像を撮像した観察装置に応じた画像処理パラメータと分類識別面を用いて,画像処理と分類処理を行うようにした。また,観察装置ごとの画像処理パラメータ調整を効率的に行うために,教示された欠陥領域をもとに適切な画像処理パラメータを自動調整するようにした。また,任意の観察装置で調整した画像処理パラメータをもとに他の観察装置用の画像処理パラメータを設定するようにした。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)