WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2012098062) SUBSTRATE FOR MIRRORS FOR EUV LITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/098062    International Application No.:    PCT/EP2012/050533
Publication Date: 26.07.2012 International Filing Date: 14.01.2012
IPC:
C22C 9/00 (2006.01), C22C 21/00 (2006.01), C22C 29/00 (2006.01), G02B 5/08 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
EKSTEIN, Claudia [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MALTOR, Holger [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: EKSTEIN, Claudia; (DE).
MALTOR, Holger; (DE)
Agent: WERNER & TEN BRINK - PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT; Mendelstr.11 48149 Münster (DE)
Priority Data:
102011002953.2 21.01.2011 DE
61/434,869 21.01.2011 US
Title (EN) SUBSTRATE FOR MIRRORS FOR EUV LITHOGRAPHY
(FR) SUBSTRAT POUR MIROIRS POUR LITHOGRAPHIE EUV
Abstract: front page image
(EN)Substrates which are suitable for mirrors used at wavelengths in the EUV wavelength range are substrates (1) comprising a base body (2) in which the base body (2) is made of a precipitation-hardened alloy, of an intermetallic phase of an alloy system, of a particulate composite or of an alloy having a composition which, in the phase diagram of the corresponding alloy system, lies in a region which is bounded by phase stability lines. It is particularly preferable for the base body (2) to be made of a precipitation-hardened copper or aluminum alloy. In addition, a highly reflective layer (6) is provided on the polishing layer (3) of the substrate (1) of the EUV mirror (5).
(FR)L'invention porte sur des substrats qui sont appropriés pour des miroirs utilisés à des longueurs d'onde incluses dans la plage de longueur d'onde des ultraviolets extrêmes (EUV), qui sont des substrats (1) comprenant un corps de base (2), le corps de base (2) étant fait d'un alliage durci par précipitation, d'une phase intermétallique d'un système d'alliage, d'un composite particulaire ou d'un alliage ayant une composition qui, dans le diagramme de phase du système d'alliage correspondant, se trouve dans une région qui est bornée par des lignes de stabilité de phase. Il est particulièrement préférable que le corps de base (2) soit fait d'un alliage de cuivre ou d'aluminium durci par précipitation. En outre, une couche fortement réfléchissante (6) est placée sur la couche de polissage (3) du substrat (1) du miroir EUV (5).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)