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1. (WO2012096524) METHOD OF MANUFACTURING A PATTERNED PHASE DELAY FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/096524    International Application No.:    PCT/KR2012/000289
Publication Date: 19.07.2012 International Filing Date: 11.01.2012
IPC:
G02F 1/13363 (2006.01)
Applicants: DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. [KR/KR]; 625-3, Yodang-ri Yanggam-myeon, Hwaseong-si Gyeonggi-do 445-935 (KR) (For All Designated States Except US).
LEE, Seng Kue [KR/KR]; (KR) (For US Only).
CHOI, Jin-Wook [KR/KR]; (KR) (For US Only).
KIM, Sung Min [KR/KR]; (KR) (For US Only).
LEE, Seung Hee [KR/KR]; (KR) (For US Only).
LEE, Myoung-Hoon [KR/KR]; (KR) (For US Only).
KANG, Shin-Woong [KR/KR]; (KR) (For US Only).
JEONG, Kwang-Un [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: LEE, Seng Kue; (KR).
CHOI, Jin-Wook; (KR).
KIM, Sung Min; (KR).
LEE, Seung Hee; (KR).
LEE, Myoung-Hoon; (KR).
KANG, Shin-Woong; (KR).
JEONG, Kwang-Un; (KR)
Agent: PARK, Myoung Sik; 11th, Yeosam Bldg. 648-23, Yeoksam-dong, Gangnam-gu Seoul 135-080 (KR)
Priority Data:
10-2011-0003040 12.01.2011 KR
Title (EN) METHOD OF MANUFACTURING A PATTERNED PHASE DELAY FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM À RETARD DE PHASE À MOTIFS
(KO) 패턴된 위상지연 필름의 제조 방법
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a method of manufacturing a patterned phase delay film, and more particularly, to a method of manufacturing a patterned phase delay film in which light curable monomer composition layers are formed at a predetermined distance and cured to form a patterned phase delay film, and a patterned phase delay film manufactured by the above-described method. According to the present invention, a board already capable of performing phase delay is utilized, and light curable monomer composition layers are formed at a predetermined distance and cured. Thus, a process for forming an orientation material layer and an orientation to the orientation material layer may be performed only once to form a patterned orientation. Thus, the number of manufacturing processes may be significantly reduced. As a result, manufacturing costs may be reduced. Thus, a phase delay film on which a more precise pattern is formed may be manufactured. Also, when directly rubbing on the board having the phase delay function to form the orientation, it may be unnecessary to form the orientation material layer. Thus, the number of manufacturing processes may be further reduced, and also, a height difference between the light curable monomer composition layer and the board may be reduced.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de fabrication d'un film à retard de phase à motifs, et, plus particulièrement, sur un procédé de fabrication d'un film à retard de phase à motifs, dans lequel procédé des couches à composition à monomères durcissable à la lumière sont formées à une distance prédéterminée et durcies de façon à former un film à retard de phase à motifs, et sur un film à retard de phase à motifs fabriqué par le procédé décrit ci-dessus. Selon la présente invention, une plaque déjà apte à réaliser un retard de phase est utilisée, et des couches à composition à monomères durcissable à la lumière sont formées à une distance prédéterminée et durcies. Par conséquent, un processus pour former une couche de matériau d'orientation et une orientation pour la couche de matériau d'orientation peut être effectué une seule fois pour former une orientation de motifs. Par conséquent, le nombre de processus de fabrication peut être réduit de façon significative. En résultat, les coûts de fabrication peuvent être réduits. Par conséquent, un film à retard de phase sur lequel un motif plus précis est formé peut être fabriqué. Egalement, lors d'un frottement direct sur la plaque ayant la fonction de retard de phase pour former l'orientation, il peut être inutile de former la couche de matériau d'orientation. Par conséquent, le nombre de processus de fabrication peut être encore davantage réduit, et, également, une différence de hauteur entre la couche à composition à monomères durcissable à la lumière et la plaque peut être réduite.
(KO)본 발명은 패턴된 위상 지연 필름의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 빛의 위상을 지연시키는 기판을 사용하고, 광 경화성 단량체 조성물층을 일정 간격으로 형성하고 경화하여 패턴된 위상지연 필름을 제조하는 방법 및 상기 방법에 의해 제조된 패턴된 위상지연 필름에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 이미 위상지연을 할 수 있는 기판을 사용하고, 광 경화성 단량체 조성물 층을 일정 간격으로 형성하고 경화함으로써, 배향제층 형성 및 배향제층에 배향성을 형성하는 공정을 단 1회만 실시하여 패턴된 배향성을 형성할 수 있으므로, 제조공정이 획기적으로 단축되는 효과가 있다. 또한, 그에 따라 비용을 절감할 수 있는 이점이 있으며, 더욱 정교한 패턴이 형성된 위상지연 필름을 제조할 수 있다. 또한, 위상지연을 할 수 있는 기판 자체에 직접 러빙하여 배향성을 형성시키는 경우, 배향제층을 형성할 필요가 없어 제조공정을 더욱 단축시킬 수 있으며, 광경화성 단량체 조성물층과 기판 사이의 높이 차이를 줄일 수 있다.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Korean (KO)
Filing Language: Korean (KO)